نتایج جستجو برای: نیترید کربن گرافیتی

تعداد نتایج: 11080  

پایان نامه :وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه پیام نور - دانشگاه پیام نور استان تهران - دانشکده علوم پایه 1391

بعد از محدود شدن ترانزیستورهای سیلیکونی، بعلت بازدهی کم و پتانسیل پایین، پیداکردن جایگزینی مناسب برای آنها، که علاوه بر بازدهی بالاتر، قابلیت مجتمع سازی و عدم نیاز به تجهیزات خنک کننده داشته باشد اهمیّت فوق العاده ای پیدا کرد. لذا با در نظر گرفتن این شرایط، گالیوم نیترید به عنوان جایگزین آن معرفی گردید که یک نیمه رسانای ترکیبی iii-v و با گاف نواری مستقیم و نسبتاً بزرگ (با انرژی 3.5 الکترون ولت) م...

امیر عباس نوربخش روزبه جواد کلباسی علی قلمزن, مجتبی نصر اصفهانی

در تحقیق حاضر نقش افزودنی آهن بر سنتز نیترید سیلیسیوم به روش کربوترمال و نیتریداسیون از پیش سازه  سیلیکاتی MCM-48 و عامل کربنی ساکاروز بررسی شد. ابتدا مزوحفره سیلیکاتی سنتز گردید. سپس با استفاده از انحلال MCM-48 و ساکاروز در آب دو بار تقطیر و خشک نمودن رسوبحاصله، مخلوط های دو تایی آماده شد. جهت بررسی نقش آهن، با افزودن آهن در محدوده یک، دو و سه درصد وزنی به مخلوط فوق، سیستم های سه تایی نیز آماد...

زهرا عزیزی ستار ارشدی محدثه بلبل امیری,

برای یافتن حسگرهای حساس مناسب برای مولکول خردل (MU) که یکی از عوامل تاول‌زا می ‌باشد، در این پژوهش رفتار جذب مولکول خردل بر روی سطح خارجی نانولوله‌ های آلومینیوم ـ نیترید زیگزاگ (4،0)، (5،0) و (6،0) با استفاده از روش نظریه‌ ی تابعی دانسیته(DFT) مورد مطالعه قرار گرفت. بهینه‌ سازی ساختاری در سطح نظری**311-6/...

پایان نامه :وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه رازی - دانشکده علوم 1388

به این منظور، در فصل اول به شرح چگونگی ایجاد کربن نانوتیوبها و نیز مفاهیم اپتیکی آنها پرداخته شده است. در فصل دوم با استفاده از مدل تنگ بست قوی، خواص الکتریکی کربن نانوتیوبهای زیگزاگ و آرمچیر بررسی شده است. در ادامه خواص اپتیکی و تاثیرات حضور میدان مغناطیسی خارجی بر روی آنها بررسی شده است. در فصل سوم کربن نانوتیوبهای تک دیواره زیگزاگ و آرمچیر را به صورت استوانه سه بعدی در نظر گرفته ایم و پذیر...

جک کرامپون مهدی کلانتر,

جهت تهیه آلومینای ریز دانه و عاری از هرگونه رشد دانه غیر نرمال لازم است شرایط خاصی در رابطه با مواد اولیه (پودر میکرونی با خلوص بالا) و شرایط پخت (دما، زمان، فشار مکانیکی و اتمسفر کوره) اعمال شود. بالاترین تراکم پذیری تا حد دانسیته تئوری در شرایط زینترینگ تحت بار با فشار مکانیکی Mpa 45 تحت اتمسفر محیط خلاء شرایط دمائی و زمانی 1450 درجه سانتیگراد به مدت 30 دقیقه و در حضور PPm 500 اکسید منیزیم حا...

پایان نامه :وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه رازی - دانشکده علوم 1394

در این پایان نامه ما رسانش الکتریکی گرافین تک لایه با گرافین دو لایه را بررسی می کنیم و همچنین رسانش الکتریکی برای حالتی که در یکی از لایه ها به جای اتم ها کربن نیترید بور قرار دارد تکرار می کنیم نتایج را برای دو حالت که صفحه ها به صورت ساده و برنال روی هم قرار گرفته اند بررسی می کنیم . نمودار های چگالی حالت و رسانش الکتریکی مربوط به آنها را مورد تجزیه و تحلیل قرار می دهیم. برای بررسی این موضوع...

در این تحقیق دارو بر روی بسترهای مختلف مورد بررسی قرار گرفته است داروی مربوطه مدلی از یک داروی دیابت به نام پیمگدین بوده که نقش نانو لوله بورنیترید در حمل این دارو بررسی شده است برای این منظور لوله بور نیترید زیگزاگ (0/5) با طول‌های مختلف و نانو کربن  مورد  تجزیه  و تحلیل  قرار گرفته است  و از نرم افزار گوسین  و  روش  DFT/B3LYPو سری پایه‌های G21-3  و G31-6 برای انجام محاسبات استفاده ‌شده است. ب...

روش تف‌جوشی جرقه پلاسمایی به عنوان روشی کارآمد در تولید مواد نانوساختار فلزی مطرح است. در این فرایند عموماً از قالب گرافیتی استفاده می‌گردد. محدودیت استفاده از قالب گرافیتی حداکثر فشار قابل اعمال ( MPa 100) در فرایند است. در این تحقیق اثر نوع قالب (قالب گرافیتی با فشار MPa 40 و قالب اینکونل با فشار MPa 250) بر ریزساختار و خواص نقره نانوساختار در فرایند تف‌جوشی جرقه پلاسمایی مورد ارزیابی قرار گرف...

پایان نامه :وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه صنعتی اصفهان - دانشکده فیزیک 1392

ادوات اپتوالکترونیکی نیازمند موادی هستند که گاف انرژی آن ها در محدوده ی معینی باشد. نقاط کوانتومی، این ویژگی را فراهم می آورند، به گونه ای که می توانند با تغییر گاف انرژی، محدوده ی مورد نظر آن را برای ما ایجاد کنند‎.‎‎ ‏آن ها ‎نانوذراتی با خصوصیات نوری منحصربه فرد می باشند، که امروزه بسیار مورد توجه اند. از موادی که اخیراً در سلول های فوتوولتائیک مورد توجه دانشمندان قرار گرفته، ‎‏گرافین و نیترید...

�لایه های نازک نیترید سیلیکون برروی زیرلایه بس کریستال سیلیکون و شیشه نازک بااستفاده از روش کندوپاش RF لایه نشانی شده اند. لایه نشانی یک بار در محیط گاز آرگن و بار دیگر در محیط گاز نیتروژن انجام شده� است. با تغییر توان لایه نشانی نسبت نیتروژن و سیلیکون موجود در لایه تغییرمی کند و لایه هایی با خواص نوری متفاوت به دست می آید. تأثیرات ناشی از تغییرات توان RF برروی خواص نوری و ترکیبات موجود در لایه...

نمودار تعداد نتایج جستجو در هر سال

با کلیک روی نمودار نتایج را به سال انتشار فیلتر کنید