Different thicknesses of 99.97% Cu are deposited on glass substrate by thermal evaporation method at the rate of 2A˚/sec. Kramers-Kronig method is used for the analysis of the reflectivity constant in the range of 200nm<λ2eV, by increasing the thickness, the imaginary part of refraction index, k, increases and real part, n, decreases. At higher energies, both constants reach the asymptotic valu...

در این مقاله لایه نازک zno به روش سل ‎ ژل بر روی زیرلایه شیشه ساخته شده است. لایه ‎ های اولیه ابتدا در دمای 100 و ˚c 240 خشک و سپس در دماهای 300 ، 400 و ˚c 500 پخت شده اند. اندازه ‎ گیری مقاومت دو نقطه ‎ ای نشان می ‎ دهد که مقاومت الکتریکی لایه ‎ های آماده شده، بسیار زیاد است. تابش پرتو لیزر اگزایمر krf ( 248nm = λ ) با تعداد پالس 1000 ، فرکانس 1hz و انرژی 90mj/cm2 بر سطح لایه باعث کاهش مقاومت ...

در این پژوهش نانوسیم‏های اکسید روی با خواص ساختاری بالا از طریق اکسیداسیون حرارتی لایه‏های نازک zn فلزی رشد داده شدند. فیلم‏های zn با ضخامت 250 نانومتر با استفاده از تکنیک تبخیر در خلاء بر روی زیرلایه شیشه لایه نشانی گردیدند. جهت رشد نانوسیم‏های اکسید روی، فیلم‏های zn لایه‏نشانی شده به مدت 30 دقیقه، 1ساعت و 3 ساعت در دمای ˚c600 در محیط هوا با استفاده از یک کوره افقی اکسید شدند. مورفولوژی سطح نم...

�لایه های نازک نیترید سیلیکون برروی زیرلایه بس کریستال سیلیکون و شیشه نازک بااستفاده از روش کندوپاش RF لایه نشانی شده اند. لایه نشانی یک بار در محیط گاز آرگن و بار دیگر در محیط گاز نیتروژن انجام شده� است. با تغییر توان لایه نشانی نسبت نیتروژن و سیلیکون موجود در لایه تغییرمی کند و لایه هایی با خواص نوری متفاوت به دست می آید. تأثیرات ناشی از تغییرات توان RF برروی خواص نوری و ترکیبات موجود در لایه...

در این تحقیق تجربی مورفولوژی، خواص ساختاری و اپتیکی نانوساختارهای اکسید روی خالص رشد داده شده به روشهای اسپری پایرولیزیز و تبخیر حرارتی را بر روی زیرلایه های شیشه، ito و سیلیکون مورد بررسی قرار داده ایم. در این مطالعه از دستگاه های میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی (fesem)، پراش اشعه x(xrd)، طیف سنجی uv-vis-nir و فوتولومینسانس (pl) استفاده کرده ایم. در نمونه های رشد یافته به روش اسپری پایرو...

لایه های نازک zns بر روی زیرلایه های شیشه ای در دماهای مختلف زیرلایه به دو روش تبخیر در خلأ (pvd) و اسپری پایرولیزیز لایه نشانی شدند و در دمای °c 500 درهوا بازپخت گردیدند. تغییر در خواص اپتیکی و ساختاری لایه ها توسط طیف پراش اشعه ایکس و طیف سنجی uv/vis بررسی شد و همچنین به کمک داده های طیف عبوری، گاف انرژی محاسبه گردید. نتایج آزمایش ها حاکی از آن است که همه لایه ها دارای ساختار مکعبی هستند. تبل...

فیلم های لایه نازک با ساختار نانو از بروموآلومینیوم فتالوسیانین و سرب فتالوسیانین که به روش تفنگ پرتوی الکترونی به ترتیب روی زیرلایه شیشه ای نشانده شدند، تهیه گردید. قطعه ساندویچی  al/bralpc/pbpc/alتحت خلأ  torr  5-10 در آزمایشگاه ما تهیه شد. رفتار الکتریکی قطعات با پیوند ناهمگن در بازه ی فرکانسی  hz105-  102 و در بازه ی دمای k 403 - 303 مورد بررسی قرار گرفت. تمامی اندازه گیری ها در دماهای مختل...

در این پژوهش نانوسیم‏های اکسید روی با خواص ساختاری بالا از طریق اکسیداسیون حرارتی لایه‏های نازک Zn فلزی رشد داده شدند. فیلم‏های Zn با ضخامت 250 نانومتر با استفاده از تکنیک تبخیر در خلاء بر روی زیرلایه شیشه لایه نشانی گردیدند. جهت رشد نانوسیم‏های اکسید روی، فیلم‏های Zn لایه‏نشانی شده به مدت 30 دقیقه، 1ساعت و 3 ساعت در دمای ˚C600 در محیط هوا با استفاده از یک کوره افقی اکسید شدند. مورفولوژی سطح نم...

در این پایان نامه ابتدا اثرات و کاربردهای ساختارهای موجبر مجتمع زیرلایه ای (siw) در المان های مایکروویوی مورد بررسی و مطالعه قرار گرفته است. روش های تحلیل تمام موج این ساختارها از لحاظ به دست آوردن فرکانس قطع و ماتریس پراکندگی بررسی گردیده و روش هایی برای تحلیل تمام موج این ساختارها پیشنهاد گردیده است. در ادامه با توجه به ویژگی های این گونه از ساختار، آنتن پهن باند، آنتن با قابلیت پیکربندی مجدد...

در این کار تجربی لایه های نازک اکسید ایندیم آلاییده با اکسید قلع  (ito) با ترکیب های مختلفی از 60 تا wt%95 اکسید ایندیم و 40 تا wt%5 اکسید قلع با استفاده از روش تبخیر با باریکه الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای نهشته شدند. لایه ها پس از نهشت، به مدت 3 ساعت در هوا در دمای cْ450 تحت عملیات حرارتی قرار گرفتند. تاثیر غلظت آلاینده اکسید قلع با تغییر غلظت آن از 5 تا wt%40 بر روی خواص ساختاری و اپتیک...