مشاهده مغناطیس ناشی از اوربیتال p در برخی ترکیبات فاقد عناصر واسطه، حوزه ی جدیدی را در علوم مغناطیس گشوده است. از جمله این ترکیبات می توان به برخی آلیاژهای دوتایی یونی نظیر can اشاره کرد. همراه بودن رفتار مغناطیسی این ترکیب با ویژگی نیم فلزی در برخی ساختارهای شبه پایدار، می تواند برای صنعت اسپینترونیک نویدبخش باشد. پس از مرور مختصری بر ویژگی¬های ترکیبات دوتایی مبتنی بر مغناطش p و نظریه ی تابعی...

در این تحقیق تجربی لایه های نازک نانو ساختار اکسید روی به روش اسپری پایرولیز سنتز و خواص فیزیکی گوناگون آنها شامل خواص مورفولوژی، ساختاری، اپتیکی، الکتریکی، ترمو الکتریکی و همچنین کاربرد آنها در فوتو رسانایی uv مورد بررسی قرار گرفت. در این تحقیق برای مشخصه‏یابی نمونه‏ها از دستگاه میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی (fesem)، پراش اشعه ایکس (xrd)، طیف سنجی uv-vis، دستگاه اندازه گیری منحنی جریان ...

هدف از تحقیق حاضر بررسی تأثیر افزایش مدت زمان رسوب دهی و در نتیجه افزایش ضخامت بر خواص لایه های نازک تیتانیم ایجاد شده روی زیرلایه فولاد زنگ نزن 316L با استفاده از روش رسوب دهی فیزیکی بخار (PVD) است. به این منظور، عملیات رسوب دهی در مدت زمان های مختلف 5، 10، 15 و 20  دقیقه انجام شد تا لایه هایی با ضخامت های مختلف ایجاد شود. سپس ضخامت لایه های نازک تیتانیم با استفاده از دستگاه پروفیل سنج اندازه ...

در این تحقیق لایه های نازک pb با ضخامت های مختلف به روش الکتروانباشت تک حمام و با استفاده از سه الکترود بر روی زیرلایه های مس و طلا تهیه شدند. برای به دست آوردن ولتاژ مناسب انباشت از مطالعه ولتامتر چرخه ای استفاده شد. ضخامت لایه های انباشت شده با استفاده از دستگاه dektak3 اندازه گیری شد. نانوساختار این لایه ها با استفاده از میکروسکوپ الکترونی روبشی و الگوی پراش اشعه ایکس مورد مطالعه قرار گرفت. ...

لایه?های نازک اکسیدآهن با ضخامت 300 نانومتر به روش لایه ?نشانی الکتروشیمیایی بر روی شیشه رسانا FTO �نشانده و در دمای 300 درجه سانتی?گراد پخت شده?اند. به منظور تعیین ساختار، مورفولوژی سطح ، بررسی خواص الکتروکرومیک و اپتیکی لایهنازک اکسید آهن به ترتیب از آنالیزهای XRD،SEM ، ولتامتری چرخه?ای (CV)، کرونوآمپرومتری (CA) و �UV/Visاستفاده گردید. نتایج نشان می?دهند که لایه نازک اکسید آهن با فاز کریستالی...

انباشت لایه های نازک اکسید روی غیر آلائیده و همچنین آلایش یافته با عناصر قلع، نیتروژن و استفاده همزمان نیتروژن و عناصر گروه iii با استفاده از روش اسپری پایرولیزز مد نظر می باشد. هدف، بهبود خواص فیزیکی لایه های اکسید روی با استفاده از عناصر آلاینده است و از این رو توجه خاصی به تغییر نوع رسانش از n به p در اثر آلایش ساختار صورت گرفته. دسترسی به لایه هایی با خواص ایده آل از نوع n و p امکان معرفی ن...

لایه نشانی یک لایه بسیار نازک 9 تا 18 نانومتری از نانوذره‌های کربنی بر روی الکترودITO با استفاده از روش لایه نشانی لایه- لایه انجام شده و اثرات آن بر روی فرایندهای الکتروشیمی مورد بررسی قرار گرفته است. شناسایی‌ این لایه‌های بسیار نازک با استفاده از تکنیکهای اسپکتروفتومتری، اسپکتروسکوپی امپدانس و میکروسکوپی نیروهای اتمی انجام شده‌است. بررسیهای انجام شده با سیستم‌های ردوکس جذب شده آنیونی و کاتیون...

در این کار ضمن ارایه یک مدل ریاضی برای محاسبه مقاومت ویژه لایه های نازک, تغییرات مقاومت الکتریکی ویژه بر حسب ضخامت برای تک لایه ایهای نازک ni و چند لایه ایهای نازک ni/cu مورد مطالعه قرار گرفت. لایه ها به روش الکتروانباشت از یک محلول الکترولیت شامل یونهای ni و cu رشد یافتند. ضخامت لایه ها از 200 تا 2000نانومتر تغییر داده شد. نقش پراش پرتوایکس (xrd) تعدادی از لایه های نازک ni/cu بیانگر ساختار چند...

در این تحقیق، لایه های نازک اکسید ایندیم قلع (ITO) به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای. با ضخامت‌های اسمی 50، 100، 170 و 250 نانومتر، با نرخ انباشت ثابت 10/0 نانومتر بر ثانیه لایه نشانی شده اند. دمای زیرلایه ها در خلال لایه نشانی در دمای 400 درجه سانتیگراد ثابت نگه داشته شد. از تکنیک های پراش پرتو ایکس (XRD) و بازتاب سنجی اشعه ایکس (XRR) برای آنالیز ساختاری لایه های نازک اس...

در این مقاله لایه­های نازک نانوساختار مس و روی به روش لایه نشانی لیزر پالسی تهیه شده­ و ضرایب جذب و شکست غیرخطی این لایه ها با استفاده از روش روبش- z اندازه­گیری و بررسی شده است. جزئیات پارامترهای لایه نشانی لیزر پالسی برای هر دو فلز مس و روی ارائه شده است. برای انجام آزمایش روبش- z از لیزر موج   اندازۀ ضریب جذب و ضریب شکست غیرخطی لایه­های نازک نانوساختاری مس و روی به کمک نمودارهای آزمایش روبش-...