میکروسکوپ های afm توانایی خوبی در تصویر برداری از سطوح اکثر مواد رسانا، نیمه رسانا، کریستال های فوتونی وعایق ها را دارند که امروزه از جمله ابزار های مهم در حوزه نانو تکنولوژی محسوب می شود. از آن جایی که تکنولوژی ساخت cantilever ها که در میکروسکوپ های نیروی اتمی afm به عنوان یک قطعه، بسیار هزینه بر، وارداتی است و مخصوصا اطلاعات مربوط به دانش فنی آن نیز عملا موجود نمی باشد، در این تحقیق به مطالعا...

مهم ترین اهداف اصلاح غشاهای تبادل پروتون در پیل های سوختیpem عبارتند از: تهیه غشاهای تبادل پروتون دارای هزینه پایین نسبت به غشاهای فلوئورینه، میزان جذب آب مطلوب و حفظ آن در دماهای بالا، هدایت پروتونی مطلوب در دماهای بالا، میزان عبورگازهای واکنشگر و متانول پایین از غشاء، پایداری حرارتی بهبود یافته، استحکام مکانیکی و شیمیایی بالا و همچنین خاصیت خود مرطوب شوندگی غشاها در دماهای بالا. در این کار ...

یکی از روش­های سریع، ایمن و پاک برای تولید نانوذره­های کلوییدی با ویژگی­های مختلف ساختاری و نوری، روش کندوسوز لیزر تپی در محیط مایع است. در صورتی­که، دیگر روش­های ساخت نیاز به دمای بالا، زمان واکنش طولانی و رویه­های شیمیایی چند مرحله­ای دارند. این مقاله شبیه­سازی فرایند کندوسوز لیزر تپی و عامل­های مؤثر بر ویژگی­های نانوذره­های تولیدی عنصرهای تیتانیم، سیلسیم و تنگستن در محیط آب مقطر به ارتفاع یک...

در این کار نمونه های سیلیسیوم متخلخل از حکاکی الکتروشیمیایی ویفر سیلیسیوم نوع p با ساختار تک بلوری با جهت (100) به قطرnm 5/0+100 و مقاومت ویژه 2-5cm در محلول الکترولیت بر مبنای اسید هیدروفلوریک تهیه شده اند. الکترودها در عین اندازه گیری لایه ی آلومینیوم و طلا به ضخامت 30-40nm که در شرایط خلا 10mbar و به روش تبخیر گرمایی تهیه شده اند هستند. نمونه های متخلخل را تحت شرایط آندی سازی مختلف از جمله چ...

در تحقیق حاضر رفتار خزش فروروندگی آلیاژهای mg-si (mg-0.5si,mg-0.8si.mg-1.23si) در محدوده دمایی 125 تا 218 درجه سانتیگراد و تحت تنش های نرماله 0/007 تا 0/018 مورد بررسی قرار گرفته است. همچنین عنصر بیسموت برای اصلاح ترکیب mg2si حاصل به مقدار 0/4% به تمامی آلیاژها اضافه شد. بررسی های صورت گرفته نشان می دهدکه با اضافه شدن درصد سیلیسیم در آلیاژهای مورد مطالعه mg-si نرخ های خزش حالت پایدار کاهش یافته...

در این پایان نامه سنتز ترکیبات جدید دی تیوکاربامات حاوی گروه های ارگانو سیلیکونی مورد بررسی قرار گرفته است. بدین منظور ابتدا دی تیوکاربامات حاوی گروه آلدهید توسط واکنش آمین های نوع دوم و کربن دی سولفید با 4-(برومو آلکوکسی )بنزآلدهید تحت شرایط بدون حلال و در حضور k2co3 به عنوان کاتالیزگر تهیه میگردد. در مرحله بعد، واکنش اولفیناسیون پترسون تریس(تری متیل سیلیل) متیل لیتیم، تهیه شده از ترایسل و متی...

لایه ی نازک اکسید سیلسیم به علت دارا بودن ضریب شکست پایین و در عین حال شفاف بودن در محدوده ی مریی کاربرد بسیار زیادی در قطعات اپتیکی و اپتوالکترونیکی دارد همچنین این ترکیب به علت دارا بودن خواص الکتریکی ویژه در قطعات میکروالکترونیک از جمله در مدارات مجتمع به طور وسیع مورد استفاده قرار می گیرد برای تولید ترکیب اکسید سیلسیم به صورت لایه نازک به روش رسوب گذاری بخار شیمیایی استفاده از گاز سیلان به ...

تخلخل هایی با قطر نانومتری با روش الکتروشیمیایی و با استفاده از محلول الکترولیت اتانول و اسید بر روی پایه های سیلیکان نوع ایجاد گردید. با استفاده از اندازه گیری درصد تخلخل و نیز محاسبه ظرفیت دی الکتریک، رابطه بین این دو پارامتر در نانو ساختارهای سیلیکان متخلخل بررسی گردید. در این مطالعه مشخص شد که افزایش زمان خوردگی موجب افزایش درصد تخلخل شده که کاهش ظرفیت دی الکتریک سیلیکان متخلخل را سبب می شو...

This article has no abstract.