چاپ فلکسوگرافی پرکاربردترین تکنولوژی چاپ در صنایع بسته‌بندی می‌باشد. اما عدم چسبندگی مناسب مرکب بر پایه آب بر روی مقوای پوشش داده شده با پلی‌اتیلن یکی از مهم‌ترین مشکلات محسوب می‌شود. عوامل ارتقاء دهنده‌ چسبندگی از نوع سیلان از جمله بهترین افزودنی‌هایی هستند که به عنوان عامل تشکیل دهنده اتصالات عرضی و عوامل ضد آب در صنایع مرکب و پوشش‌ می‌توانند مورد استفاده قرار ‌گیرند. در این پژوهش از عامل ارت...

مقدمه: نانوذرات سیلیکات به دلیل زیست سازگاری، سهولت تهیه و اصلاح سطح اهمیت زیادی در حوزه پزشکی و درمان دارند. با استفاده از پوشش‌ های سطحی مختلف نانوذرات می ‌توان خواص زیست-پزشکی مطلوب و پایداری را برای این ذرات ایجاد کرد. بنا بر این، هدف این تحقیق ارزیابی ورود این نانوذرات در شرایط لوله آزمایش و موجود زنده است. مواد و روش ها: در این تحقیق، هنگام سنتز نانوذرات مغناطیسی سیلیکات، رادیو داروی ...

نانوسیلیکا بعلت ویژگی های متخلخل و مورفولوژیکی، مواد جالبی برای اکثر کاربردهای تکنولوژی در نظر گرفته شده است. در این کار ما قصد داریم اصلاح شیمیایی سطح نانوسیلیکا را با 3-دی متیل آمینو پروپیل تری اتوکسی سیلان بمنظور تهیه ی نانو سیلیکای بازی گزارش دهیم. سطح نانوسیلیکا با گروه های آمینو پروپیل عامل دار شده و سپس گروه های nh2 روی سطح نانوسیلیکا به روش کلارک به مشتقات دی متیل آنها تبدیل می شوند. سا...

چکیده در بخشی از این کار تحقیقاتی به منظور ارائه روشی جدید وکارآمد برای سنتز اسپیروارتوکربنات ها، ابتدا از واکنش 1,3-دی ال های مختلف با دی کلرو دی فنوکسی متان، 1,3-دی اکسان های مربوطه به دست آمد. سپس از واکنش این ترکیبات با دی ال های آلیفاتیک و آروماتیک مختلف در حضور مقدار کاتالیزوری ید مولکولی تترا اکسا اسپیروارتوکربنات های مربوطه به دست آمدند. همچنین برای سنتز ماکروسیکل های اسپیرو، از واکن...

هدف اصلی این مطالعه بررسی امکان استفاده از رزین پایه سیلوکسانی به عنوان پوشش برای محافظت بناهای تاریخی ساخته شده از آجر همچون معبد تاریخی چغازنبیل و نیز میزان کارآیی چنین رزینی به عنوان یک ماده حفاظتی است. مطالعات اولیه بر روی بستر شیشه‌ای پوشش داده شده با رزین‌های پایه سیلوکسانی تجاری و سنتزی انجام گرفت. رزین پایه سیلوکسانی سنتزی با استفاده از تترا اتیل ارتوسیلیکات، متیل متاکریلات و 3-(متاکریل...

در سال های اخیر نانو ذرات مغناطیسی عامل دار شده، دیاتومیت اصلاح شده و مایع های یونی در سنتز ترکیب های حلقوی مورد توجه بسیاری از شیمیدان های آلی قرار گرفته است. در این پژوهش تلاش می گردد با اتصال عامل سولفونیک اسید توسط رابط تترا اتیل ارتو سیلیکات بر روی بستر نانو ذرات مغناطیسی fe3o4، اصلاح دیاتومیت، ساخت مایع های یونی و هم چنین سیانوریک کلرید در سنتز ناجور حلقه های اکسیژن دار و نیتروژن دار استف...

در این تحقیق الکترود کربن سرامیک توسط روش سل-ژل که در آن از متیل تری متوکسی سیلان به عنوان اغازگر استفاده شده است و در مرحله ژل شدن میکروذرات گرافیت اضافه گردید آماده شد. کربن سرامیک ساخته شده به روش الکتروشیمیایی توسط نانوذرات طلا اصلاح شد. رفتار الکتروشیمیایی l-سیستئین بر سطح الکترود کربن سرامیک اصلاح شده بررسی شد. الکترود اصلاح شده فعالیت کاتالیتیکی خوبی برای کاهش l-سیستئین نشان داد. بنابرای...

در این پروژه طراحی و ساخت یک دستگاه سامانه ی تقطیر غشایی تماس مستقیم، انجام گردید. سامانه مذکور، با استفاده از یک غشای پلی اترسولفون (pes ) که با روشی جدید عملیات اصلاح برای آب گریز کردن سطح بر روی آن انجام شد، مورد مطالعه قرارگرفت و نتایج بدست آمده با نتایج حاصل از غشای صنعتی ptfe مورد مقایسه قرار گرفت. فرآیند اصلاح سطح انجام شده در این طرح، با بکارگیری محلول های تترا اتیل ارتوسیلیکات و تری مت...

چهار کمپلکس پنج کئوردینه جدید کبالت با فرمول کلی [CoL1-4]ClO4.H2O که در آن L لیگاند شیف باز متیل-2- {[1-متیل-2-(2-هیدروکسی فنیل)متیلیدین نیتریلو]اتیل}آمینو-1-سیکلوپنتین دی تیو کربوکسیلات (H2cdsalMeen)، متیل-2- {[1-متیل-2-(2-هیدروکسی 5-کلرو فنیل)متیلیدین نیتریلو]اتیل}آمینو-1-سیکلوپنتین دی تیو کربوکسیلات (H2cd5ClsalMeen)، متیل-2- {[1-متیل-2-(2-هیدروکسی 5-برمو فنیل)متیلیدین نیتریلو]اتیل}آمینو-1-سی...

اتیل وینیل الکل (EVOH) کوپلیمری از مواد نیمه بلوری با ویژگی ممانعتی خوب نسبت به عبور گاز است. همچنین مقاومت خوبی در برابر مواد شیمیایی دارد. این پلیمر با وجود نفوذپذیری کم نسبت به عبورگازها، مقاومت کمی نسبت به عبور آب و بخار آب دارد. در این پژوهش تری متوکسی متیل سیلان (به عنوان پوشش آبگریز) با روش رسوب شیمیایی بخار تقویت شده با پلاسما (PECVD) بر روی کاغذ پوشش دهی شده با پلیمر EVOHبه منظور بهبود...