در این پروژه، نانولوله های کربنی با قطر خارجی 10-20 nm و قطر داخلی 5-10 nm و طول در حدود 10-30 ?mمورد استفاده قرار گرفتند. پس از خالص سازی این نانولوله ها به روش اسیدشویی توسط هیدروکلریدریک اسید 3 مولار و نیتریک اسید 5 مولار، با استفاده از تکنیک های tem، betوbjh، ftir، xrd و tga ساختار و خواص نانولوله ها ارزیابی شد که اصلاح نسبی ساختار آن ها را نشان می داد. پس از آن محلول پلیمری از پلیمر پلی ان...

دیود نورگسیل آلی دستاورد فناوری است که در آن از لایه های مختلف ترکیبات آلی استفاده شده است و نور را تحت روندی به نام فسفرسانس گسیل می کند که از مزایایی مانند ضخامت و وزن کمتر و همچنین کاهش انرژی، تولید گرمای کمتر و بازدهی بیشتر برخوردار است. روش های متفاوتی برای لایه نشانی oled وجود دارد که بعضی از آنها عبارتند از: تبخیر خلا، چاپ جوهرافشان، کندوپاش که شامل کندوپاش دیودی، کندوپاش تریودی، و کندو...

در این مطالعه، نیترید کربن گرافیتی (g-C3N4) از چگالش گرمایی ملامین در دو دمای 450 و 550 درجه سانتیگراد ساخته شد. همچنین، الکترود نانوساختارهای متخلخل دی اکسید تیتانیوم (TiO2 NP) به عنوان بستر برای لایه نشانی g-C3N4 با روش آندیزاسیون بر روی فویل تیتانیوم (Ti) ساخته شد و سپس برای بهبود رسانندگی الکتریکی به روش الکتروشیمیایی احیا گردید. لایه ن...

با افزودن عناصر واسطه به اکسید اسپینل منگنز-کبالت (MCO) می‌توان هدایت الکتریکی دمای بالا و چسبندگی پوشش‌های محافظ بر روی اتصال‌دهنده‌های پیل سوختی اکسید جامد را بهبود بخشید. در این پژوهش، نانوپودرهای اسپینل با ترکیبCux(Mn, Co)3-xO4 (x= 0، 2/0 و 4/0) به روش سل-ژل بر پایه‌ی شیوه‌ی پچینی سنتز شد. آلیاژ فولاد زنگ‌نزن 430 به عنوان اتصال دهنده با استفاده از روش لایه نشانی الکتروفورتیک (EPD) توسط ترکی...

در ساخت قطعات ساندویچی برمو ایندیم فتالوسیانین از الکترودهای آلومینیوماستفاده شده است . در ابتدا روی اسلایدهای شیشه ای (در ابعاد 10*12 میلی متر )آلومینیوم با ضخامت 60 نانو متر لایه نشانی شد سپس برمو ایندیم فتالوسیانین به صورت پودر و با ضخامت 100 نانو متر روی الومینویم لایه نشانی شد و سپس آلومینیوم به عنوان الکترود دوم به ضخامت 60 نانو متر لایه نشانی شد لازم بذکر است تمام لایه نشانی ها به روش تب...

در این پروژه لایه های نیکل سیاه روی زیر لایه های برنج، مس و استیل به روش الکتروانباشت تهیه شدند. این بررسی شامل انجام آزمایشهای مختلف جهت دستیابی به ترکیب شیمیایی و شرایط لایه نشانی مطلوب در فرایند ایجاد پوشش های نیکل سیاه روی زیر لایه های برنج، مس و استیل می باشد. پوشش هایی از نیکل سیاه با ترکیب شیمیایی، زمان و چگالی جریان های لایه نشانی متفاوت روی زیر لایه های فلزی با حضور لایه میانی نیکل ب...

در این تحقیق، ساخت و مشخصه یابی لایه های نازک کربن الماس گونه (dlc)، نانو بلور کربن الماس گونه (ncdlc)، کربن الماس گونه بی شکل(dlac) و به طور کلی کربن های الماس گونه نانو ساختار، همچنین الماس بس بلور (pcd) انجام گردیده است. این فیلم ها با استفاده از دو روش رسوب گذاری بخار شیمیایی حرارتی (tcvd) و سیم ملتهب (hwcvd) تولید شده اند. دو زیر لایه فولاد زنگ نزن نوع 316 و سیلیکون به دلیل کاربرد بسیار زی...

لایه نیترات سیلیکون ‏‎(sixny)‎‏ در صنایع میکروالکترونیک کاربرد فراوانی پیدان کرده است. به عنوان نمونه مواردی از قبیل: لایه های دی الکتریک عایق، سدهای نفوذی (در مقابل اکسیژن، رطوبت، سدیم و...) استفاده به عنوان ماسک در تهیه مدارات مجتمع و خواص فعال - غیرفعال سازی در قطعات الکترونیکی را می توان نام برد. این خصوصیات به مقدار زیادی به روش ساخت، نسبت استوکیومتری مناسب ‏‎(si3n4)‎‏ وجود ناخالصی هایی مث...

استفاده از ترانزیستورهای سیلیکون روی عایق (اکسید سیلیکون) راه حلی برای حذف اثرات پارازیتی موجود در افزاره های بدنه سیلیکون می باشد اما هدایت گرمایی پایین لایه اکسید مدفون در افزاره های سیلیکون روی عایق، موجب تولید اثر خود گرمایی و افزایش دمای شبکه در این افزاره ها به ویژه در افزاره های زیر میکرون می شود. لذا اثر خود گرمایی محرکی برای حرکت به سمت استفاده از تکنولوژی سیلیکون بر روی موادی گردید که...

در ‎‎این پایان نام‎ه‎، تولید نانو ذرات و لایه های نازک سیلیکون آمورف توسط رسوب‎‎ گذاری بخار شیمیایی تقویت شده با پلاسم‎ا‎ (‎‎pecvd)‎‎‎ با روش اجزای محدود و همچنین روش سینتیک معادلات یونش بررسی می شود. گازهای زمینه ی موجود در رآکتور گاز سیلان و ‎گاز هیدروژن ‎ ‎‎‎‎(‎sih‎‎$‎_4‎ $‎ ‎‎, ‎h‎$‎_2‎$‎‎‎‎)‎ ‎ ‎‎‎است. اعمال یک میدان الکتریکی که با فرکانس رادیویی ‎‎‎‎‎rf‎‎‎ تغییر می کند، سبب برخورد الکترون...