فیلم نازک (نازک لایه)، لایه‌ای از مواد آلی با ضخامتی در حد نانومتر تا میکرومتر است. سنتز کنترل‌شده فیلم‌های نازک موضوع مهمی در کاربردهای آنهاست. فیلم های نازک آلی با ضخامت نانومتری، ساختارهایی مفید برای کاربرد در حسگرها، شناساگرها، نمایشگرها و اجزای مدارهای الکترونیکی به‌شمار می‌آیند. لایه نشانی چرخشی و لانگمور- بلاجت از روش‌های کاربردی تهیه فیلم‌های نازک محسوب می‌شوند. در لایه نشانی چرخشی، نیر...

در این پایان نامه لایه های نازک تلورید کادمیوم تهیه گردیده و خواص ساختاری آن مورد مطالعه قرار گرفت. تاثیر تغییر در شرایط رشد همچون دمای زیر لایه و ضخامت لایه و همچنین استفاده از روش لایه نشانی خراشان(glad) و تاثیر چگونگی هدایت شار بخار بر استوکیومتری و خواص ساختاری لایه ها بررسی گردید. انداز? نانو بلورها، نوع ساختار و پارامتر های ساختاری همچون ثابت شبکه، ضریب ساختار (tc)، انحراف معیار استاندارد...

در این تحقیق، لایه های نازک sno2:bi و sno2-fe2o3:bi به روش اسپری پایرولیزیز بر روی بسترهای شیشه ای تهیه شده است. برای تهیه محلول اولیه از کلرید قلع 5 آبه، آب و اتانول (1:1:1) استفاده شد و تاثیر تراکم ناخالصی آهن و تغییرات تراکم بیسموت بر روی خواص ساختاری، الکتریکی، ترموالکتریکی، اپتیکی و فوتورسانایی این لایه ها بررسی شد. سیستم لایه نازک sno2:bi از ترکیب کلرید قلع (1/0 مول) و درصدهای مختلف ناخال...

در سالهای اخیر کاربرد نانو ذرات و لایه های نازک به طور وسیعی گسترش یافته که به دلیل ساختارهای متفاوت هر کدام کاربردهای مختلفی در زمینه های الکترونیکی، اپتیکی، متالوژیکی، بیو دارویی و... دارند. در این تحقیق به آماده سازی سیستم لایه نازک حاوی نانوذرات tio2 با ناخالصی sn با نسبت های مولاری مختلف و سرعت لایه نشانی متفاوت بر سطح زیر لایه هایی از جنس شیشه لام به روش اسپین کوتینگ می پردازیم. پس از مرح...

نیترید براساس پوششهای سخت به طورگسترده ای برای کاربردهای مکانیکی استفاده میشود .درمیان این پوششها نیتریدکروم ها به طور ویژه قابل توجه هستند زیرا از خواص مکانیکی واصطکاکی خوبی برخوردارهستند.دراین کار تاثیر جریان گاز نیتروژن بر خواص مکانیکی و اصطکاکی لایه های نازک نیترید کروم مورد مطالعه قرار گرفت. لایه های نازک نیترید کروم روی آلومینیم 5083 بوسیله تکنیک کندوپاش مغناطیسی جریان dc درجریانهای مختلف...

در این مقاله پس از ساخت لایه های  نازک tio2 و zro2 بر روی زیر لایه bk7 به روش تبخیر با باریکه الکترونی، طیف عبوری  uv-visible از لایه ها تهیه شده است. با استفاده از طیف عبوری، ضریب شکست لایه ها به دست آمده است. تصاویر afm از لایه های نازک tio2و zro2 تهیه شده است. اندازه گیری پراکندگی این لایه های نازک با روش پراکندگی تجمعی کلی یا tis و روش afm انجام شده است. همچنین، مقادیر زبری سطح و تخلخل و هد...

هدف از تحقیق حاضر بررسی تأثیر افزایش مدت زمان رسوب دهی و در نتیجه افزایش ضخامت بر خواص لایه های نازک تیتانیم ایجاد شده روی زیرلایه فولاد زنگ نزن 316L با استفاده از روش رسوب دهی فیزیکی بخار (PVD) است. به این منظور، عملیات رسوب دهی در مدت زمان های مختلف 5، 10، 15 و 20  دقیقه انجام شد تا لایه هایی با ضخامت های مختلف ایجاد شود. سپس ضخامت لایه های نازک تیتانیم با استفاده از دستگاه پروفیل سنج اندازه ...

لایه های نازک اکسید وانادیم(VOx) در سیستم کند و پاش مغناطیسی جریان مستقیم تهیه شدند. به منظور دستیابی به فازهایمختلف از اکسید وانادیم، نمونه ها تحت دماها و اتمسفرهای مختلف آنیل شدند. در ابتدالایه های نازک اکسید وانادیم(VOx)بدست آمده در دو دمای مختلف 450 و 500oC آنیل شدند. هر دو لایه شامل ترکیبی از فازهای VO2(M) و V2O5 بودند. فاز غالب در دمای 450oC فاز VO2(M) بود که در دمای 500oC به فاز V2O5 ...

در این تحقیق، لایه های نازک اکسید ایندیم قلع (ito) به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای. با ضخامت های اسمی 50، 100، 170 و 250 نانومتر، با نرخ انباشت ثابت 10/0 نانومتر بر ثانیه لایه نشانی شده اند. دمای زیرلایه ها در خلال لایه نشانی در دمای 400 درجه سانتیگراد ثابت نگه داشته شد. از تکنیک های پراش پرتو ایکس (xrd) و بازتاب سنجی اشعه ایکس (xrr) برای آنالیز ساختاری لایه های نازک اس...

در این مقاله پس از ساخت لایه های  نازک TiO2 و ZrO2 بر روی زیر لایه BK7 به روش تبخیر با باریکه الکترونی، طیف عبوری  UV-visible از لایه ها تهیه شده است. با استفاده از طیف عبوری، ضریب شکست لایه ها به دست آمده است. تصاویر AFM از لایه های نازک TiO2و ZrO2 تهیه شده است. اندازه‌گیری پراکندگی این لایه های نازک با روش پراکندگی تجمعی کلی یا TIS و روش AFM انجام شده است. همچنین، مقادیر زبری سطح و تخلخل و هد...