با توجه به گروههای عاملی قطبی گرمانرم پی وی سی و خاصیت چسبندگی بسیار خوب آن برای اتصال به فلزات، در این پژوهش به بررسی تولید و شکلدهی غلتکی ورقهای fml پی وی سی/ آلومینیوم/ الیاف شیشه پرداخته شده است. برای این منظور، در ابتدا با استفاده از آزمون خمش سه نقطه ای مطابق استاندارد astm d790، به بررسی استحکام خمشی و کیفیت اتصال زمینه گرمانرم پی وی سی به لایه آلومینیومی در ورقهای fml پرداخته شد. در ادا...

در این پژوهش تأثیر یون نیترات بر خوردگی حفره ای فولاد زنگ نزن دوفازی 2205 در محیط حاوی یون کلراید بررسی شده و چگونگی تأثیر این یون بر ترکیب شیمیایی محلول حفره با استفاده از الکترود مدادی مورد تحلیل قرار گرفته است. در مرحله ی اول، دمای بحرانی حفره دار شدن (cpt) این آلیاژ در محلول 6/0 مولار سدیم کلراید و نیز محلول های 6/0 مولار سدیم کلراید به همراه 01/0 و 1/0 مولار از یون نیترات، با استفاده از آز...

پدیده ی تشکیل رسوب واکس در مخازن نفتی در مراحل مختلف تولید، انتقال و فرآوری مشاهده می شود. رسوب واکس منجر به گرفتگی خطوط لوله و تجهیزات عملیاتی، افزایش افت فشار، افزایش ویسکوزیته ی مایع و به تبع آن افزایش هزینه های پمپ کردن می شود.علاوه بر این، توقف فرآیند جهت حذف واکس های رسوب کرده باعث اعمال هزینه های سرسام آوری به واحد می گردد. لذا جلوگیری از تشکیل رسوب واکس از اهمیت به سزایی برخوردار می باش...

چکیده یکی از مهمترین مراحل تولید کشمش، فرایند خشک کردن انگور می باشد. دستیابی به شرایط بهینه در فرایند خشک کردن می تواند اثر مهمی بر زمان فرآوری و بهبود شاخصهای کیفی این محصول داشته باشد. در این تحقیق تاثیر دمای دو مرحله ای و همچنین روش آماده سازی محصول بر روی زمان و آهنگ خشک شدن انگور بیدانه قرمز  مورد بررسی قرار گرفت. خشک شدن به دو صورت­ ‍ یکی با دمای ثابت 50، 60، 70 و 80 درجه سانتی گراد و دی...

در این تحقیق با استفاده از روش کندوپاش مغناطیسی DC نانولایه‌های نقره با ضخامت nm 100 بر روی شیشه سفید (به ضخامت mm 4( برای استفاده به عنوان آینه خورشیدی در دماهای زیرلایه متفاوت انباشت شد. تاثیر افزایش دمای زیرلایه (K 500-300) در هنگام لایه‌نشانی بر رشد نانوذرات نقره بررسی شد. خواص لایه‌های نقره با دستگاه‌های XRD و SEM مورد بررسی قرار گرفت. لایه نقره کندوپاشی در دماهای مختلف زیرلایه از مدل ساخت...

لایه های نازک zns در دو دمای مختلف زیر لایه 25oc و 200oc و در ضخامت های مختلف 100nm-600nm بر روی زیرلایه شیشه به روش تبخیر در خلاء لایه نشانی شدند. طیف جذب و عبور برای تعیین گاف انرژی، ضریب جذب و ثابت خاموشی نمونه ها تهیه گردید. از بررسی این طیف ها مشخص شد که با کاهش دمای زیر لایه گاف اپتیکی نمونه ها کاهش وبا کاهش ضخامت آنها گاف اپتیکی افزایش می یابد. این پدیده می تواند به اثر کوانتمی سایز ذرات...

این مقاله روشی جدید جهت تهیه نانو پوشش سیلیکا آب گریز بر روی سطوح شیشه ای در دمای اتاق، با استفاده از تترامتوکسی سیلان (tmos) به عنوان پیش ماده و اکتا دسیل تری کلرو سیلان (ots) به عنوان عامل اصلاح کننده سطح به روش غوطه وری را توصیف می کند. با تغییر نسبت مولی ots/tmos، ویژگی آب گریزی سطح متناسب با پوشش دهی، تغییر می کند. بهترین عملکرد پوششی با استفاده از واکنشگرهای meoh ،tmos ،ots ،nh3 با نسبت م...

یکی از موانع موجود در کشت درون شیشه ای انار، تراوش فنول ها است. خنثی سازی و حذف فنو ل های آزادشده در محیط کشت که باعث قهوه ای شدن محیط کشت و از بین رفتن ریزنمونه می گردد اولین اقدام ضروری درکشت بافت انار محسوب می شود. در این تحقیق اثر شستشو، جذب کننده ها شامل زغال فعال (1،2و3 گرم بر لیتر)، پلی وینیل پیرولیدین (1 و 2گرم بر لیتر)، مواد آنتی اکسیدان نظیر اسید اسکوربیک (1?0، 200 و300 میلی گرم بر لی...

در این آزمایش، حفاظت انجمادی به ­روش شیشه­ای­شدن بذور دو ژنوتیپ کلزا به نام­های آرک-2 (arc-2) و میلینا (milena) با دو نوع محلول حفاظت­کنندهpvs2  و pvs3 در 5 سطح زمانی (20، 40، 60، 80 و 100 دقیقه) انجام شد. این آزمایش به­صورت فاکتوریل در قالب طرح کاملاً تصادفی با سه تکرار انجام شد. نتایج حاصل از تجزیه واریانس برای صفت درصد جوانه­زنی تفاوت­های معنی­داری را بین زمان­های مختلف تیمار بذور، ژنوتیپ­ها ...

اگر شیشه های سودا-لایم را در مجاورت نیترات نقره قرار دهیم و دما را تا کمتر از دمای ذوب شیشه بالا ببریم،نیترات نقره ذوب شده و یون سدیم داخل شیشه جای خود را با یون نقره عوض می کند. اگر این شیشه ها را در دمای اتاق به حال خود رها کنیم،یون های نقره داخل شیشه به مرور زمان به سطح شیشه آمده، سطح آبدوست شیشه را آبگریز می کنند. درصورت قرار دادن این شیشه ها در دماهای بالاتر، سرعت بالا آمدن نقره هابه سطح ش...