nife2o4 به عنوان کاتالیزگر ناهمگن و قابل بازیافت، از واکنش نیکل کلرید 6 آبه و کلرید آهن (?) 6 آبه تهیه شد. ساختار کاتالیزگرnife2o4 به وسیله آنالیز های vsm، xrd، semو eds شناسایی شدند.

پلیمرها و الیگومرهای دارای گروه­های عاملی واکنش­پذیر در علم پلیمر بسیار مهم اند، کربنات­های حلقوی به عنوان یکی ازگروه­های عاملی واکنش پذیر در شیمی بسیار کاربردی است. این گروه­ها می­توانند در اسکلت پلیمر حضور داشته باشند ویا به صورت آویزان به زنجیر پلیمری متصل باشند. کربنات­های حلقوی از لحاظ شیمیایی به گونه­ای می باشند که می توانند با مواد مختلف از جمله آمین­ها،الکل­ها و کربوکسیلیک اسید­ها واکنش...

دی بنز (b،f)(1،4) اکسازپین یک عامل اشک آورناتوان کننده و یک واسطه در سنتز لوکسازپین(داروی ضد جنون)، اموکساپین(داروی ضد افسردگی) می باشد. مشتقات دیگر آن نیز به عنوان مسکن و یا درمان انواع بیماری ها مفید هستند. دو روش متفاوت و با استفاده از مواد اولیه مختلف برای تهیه دی بنز (b،f)(1،4) اکسازپین (cr) وجود دارد. تفاوت این دو روش در تقدم و یا تاخر واکنش های ایمیناسیون یا اتریفیکاسیون در مرحله اول می ...

در سالهای اخیر تلاش های زیادی برای سنتز کمپلکس های ابر ملکول بر پایه لیگاند های آلی چند دندانه شده است. همچنین به دلیل داشتن خواص منحصر به فرد و کاربردهای صنعتی زیاد علاقه ی زیادی برای تهیه ی نانو ساختارها از این ترکیبات وجود دارند. در این پایان نامه لیگاند 2،?2- دی آمینو- 5،?5- دی متیل- 4،?4- بی تیازول (dadmbtz) با بازدهی و خلوص بالا تهیه شد. کمپلکس های فلز کبالت حاوی لیگاند( dadmbtz) با روش ه...

The polymeric compound, {(C10H9N2)[Mn(C7H3NO4)2].­(C10H8N2).6H2O}n, was prepared by the reaction of manganese (II) nitrate with pyridine-2,3-dicarboxylic acid, (py-2,3-dcH2) and 4,4'-bipyridine (4,4'-bipy) in a 1:2:4 molar ratio. The crystal system of the complex is monoclinic with space group P21/n and four molecules per unit cell. The unit cell parameters are: a = 22.2099(15) Å, b = 6.6599(4)...

در سال های اخیر، به اصلاح و آمایش سطح پلیمر های معدنی و آلی به دلیل بهبود خواص آن ها از قبیل افزایش فعالیت، قدرت انتخاب گری بالا، انجام واکنش ها در شرایط ملایم، جداسازی ساده آن ها از مخلوط واکنش و کار در شرایط شیمی سبز توجه زیادی شده است. در میان این ترکیبات، سیلیکاژل و نانو سیلیکا به علت دارا بودن خواص منحصر به فرد از جمله نسبت سطح به جرم زیاد، پایداری شیمیایی و گرمایی بسیار بالا و سمیت ناچیز ...

در سال های اخیر ضخامت گیت دی اکسید سیلیکون در تکنولوژی CMOSبه کمتر از دو نانومتر رسیده است. این تمایل بی سابقه به کوچککردن ترانزیستور ها، علاوه بر مزایای فراوان تکنولوژیکی، مشکلاتیهمچون افزایش تونل زنی کوانتومی، افزایش جریان نشتی و نفوذ اتمبور از گیت دی الکتریک فرانازک را به همراه داشته است مواد نانوکامپوزیت هیبریدی آلی به خاطر ویژگی های خوب الکتریکی همچون جریان نشتی پایین و ثابتدی الکتریک بالا...