آلیاژ سخت پوشی استلایت 6 با مقادیر مختلفی از تانتالم بصورت درجا بر روی زیرلایه های متفاوت لایه نشانی شد. فرآیند لایه نشانی با استفاده از لیزر nd:yag کم توان ضربانی و روش پیش نشانی پودر و همچنین لایه نشانی لیزر yt:yag فیبری پیوسته با توان بالا و روش پاشش از کنار همزمان پودرها اجرا گردید. به منظور مطالعه متغیرهای پالس تعریف نسبت ذوب برای فرآیند لیزرضربانی بر پایه فرضیه چگالی انرژی بازتعریف شده و ...

در این شبیه سازی، محیط گازی را محیطی پیوسته و جریان گاز را جریانی آرام فرض کرده ایم. همچنین از اثرات تابش صرف نظر نموده و گازها را در محیط پلاسما ایده آل در نظر می گیریم. در نتیجه این شبیه سازی که با استفاده از نرم افزارفلوئنت انجام شده است، نرخ لایه نشانی کربید سیلیسیوم و همچنین پروفیل لایه نشانی محاسبه شده آن و نیز اثر پارامتر های مختلف موثر بر لایه نشانی شامل: نرخ ورودی گاز، دمای سطح زیر لای...

امروزه نیمه هادی های آلی کاربرد های زیادی در زمینه های مختلف دارند. از جمله این کاربرد ها می توان به ساخت ادوات الکترواپتیکی دیود های نوری آلی و ترانزیستور های صفحه نازک آلی با استفاده از این مواد در صنعت الکترونیک پلیمری اشاره کرد. روش های مختلفی برای ساخت این ادوات الکترواپتیکی وجود دارد که از جمله آن ها می توان به spin-coating، ovpd، لایه نشانی در فاز بخار و چاپ جوهر افشان اشاره کرد. در روش ...

با توجه به هزینه ی بالای ساخت سلول های خورشیدی سیلیکونی تحقیقات در راستای ساخت نسل جدیدی از سلول های نانوساختار که از لحاظ اقتصادی مقرون به صرفه باشند، انجام پذیرفته است. در این تحقیق دو نمونه فوتوالکترود دی اکسید تیتانیوم و اکسید روی با استفاده از لایه نشانی الکتروفورتیک تهیه شدند. به منظور حصول اطمینان از مقایسه ی نظامند و اطمینان از کیفیت لایه ها و یکسان بودن ضخامت و ریز ساختار، پارامتر های ...

لایه های نانوساختار 2 sno -2 tio به روش باریکه الکترونی روی زیرلایه هایی از جنس شیشه و آلومینیوم/شیشه لایه نشانی شدند. خلأ موردنیاز در فرآیند لایه نشانی 5 - 10 × 5 / 1 تور در نظرگرفته شد، سپس لایه ها تحت عملیات بازپخت در دماهای 450 ، 500 و 550 درجه سانتی گراد قرار گرفتند. ساختار بلوری و مورفولوژی لایه ها توسط آنالیزهای xrd و sem بررسی گردید. خواص الکتریکی ( i-v ) و اپتیکی لایه ها نیز توسط سیستم...

فیلم نازک (نازک لایه)، لایه‌ای از مواد آلی با ضخامتی در حد نانومتر تا میکرومتر است. سنتز کنترل‌شده فیلم‌های نازک موضوع مهمی در کاربردهای آنهاست. فیلم های نازک آلی با ضخامت نانومتری، ساختارهایی مفید برای کاربرد در حسگرها، شناساگرها، نمایشگرها و اجزای مدارهای الکترونیکی به‌شمار می‌آیند. لایه نشانی چرخشی و لانگمور- بلاجت از روش‌های کاربردی تهیه فیلم‌های نازک محسوب می‌شوند. در لایه نشانی چرخشی، نیر...

در این تحقیق، اصلاح الیاف وازده خمیرکاغذ نیمه شیمیایی سولفیت خنثی (NSSC) با استفاده از روش لایه نشانی لایه به لایه و با تشکیل چندلایه‌های پلیمری نشاسته انجام گرفت. پس از جداسازی الیاف و تهیه سوسپانسیون الیاف با درصد خشکی 5/0درصد و ایجاد هدایت الکتریکی حدود 437 µS/cm با افزودن محلول آبی یک میلی مول کلرید سدیم، آزمایش‌های تیمار الیاف برای تشکیل لایه‌های پلیمری (تا 5 لایه متوالی) انجام شد. در ادام...

در این تحقیق لایه‌های نازک N:ZnO روی زیر لایه شیشه با استفاده از کندوپاش DC در فشار کاری Torr 2-10×2 در مخلوط گازهای آرگون و نیتروژن لایه نشانی شدند. ضخامت، ریخت‌شناسی، ساختار کریستالی و خواص اپتیکی لایه‌ها در سه زمان کندوپاش مختلف شناسایی شدند. با افزایش زمان لایه نشانی، ضخامت لایه‌ها، زبری سطح و ارتفاع دانه‌ها افزایش می‌یابد. لایه‌ها دارای بافت قوی کریستالی در راستای (002) با ساختار هگزاگونال...

روش لایه نشانی دومرحله ای زیرشاخه ای از شیوه های ساخت سریع می باشد که در آن لایه ای از فلز مذاب بر روی زیرلایه نشانده شده و با انباشته شدن لایه ها بر روی هم هندسه ی قطعه کامل می شود. نرخ رسوب بالا، ارزان بودن و دامنه ی کاربرد وسیع از خصوصیات این روش می باشد. جوشکاری و فرزکاری کف تراشی دو گام پیاده سازی روش لایه نشانی دومرحله ای می باشند. در مرحله ی جوشکاری، فلز توسط خطوط جوش بر روی سطح نشانده م...

در این تحقیق، لایه های نازک اکسید ایندیم قلع (ito) به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای. با ضخامت های اسمی 50، 100، 170 و 250 نانومتر، با نرخ انباشت ثابت 10/0 نانومتر بر ثانیه لایه نشانی شده اند. دمای زیرلایه ها در خلال لایه نشانی در دمای 400 درجه سانتیگراد ثابت نگه داشته شد. از تکنیک های پراش پرتو ایکس (xrd) و بازتاب سنجی اشعه ایکس (xrr) برای آنالیز ساختاری لایه های نازک اس...