ملیحه احدی

[ 1 ] - مطالعه مقایسه ای روی سرعت تخریب فوتوکاتالیستی تتراسایکلین با استفاده از نانو ذرات ZnS و Cu-loaded ZnSحساس شده به نور مرئی

نانو ذراتZnS و Cu-loaded ZnS حساس شده به نور مرئی با استفاده از روش ترسیب شیمیایی سنتز شد که در این سنتز از رنگ طبیعی آنتوسیانین به عنوان حساس کننده و بازدارنده رشد استفاده شد. از تکنیکهای XRD و TEM و UV-Vis جهت شناسایی و بررسی ویژگی های ساختاری نانو ذرات استفاده شد. سپس اثر فوتوکاتالیستی این نانو ذرات در تخریب تتراسایکلین مورد مقایسه و سنجش قرار گرفت و میزان تخریب فوتوکاتالیستی تتراسایکلین توس...