تأثیر رنگدانه Fe3O4 بر فعالیت فتوکاتالیتیکی پوشش های TiO2 ایجاد شده توسط فرآیند HVOF

نویسندگان

چکیده مقاله:

روش­های متعددی برای تخریب آلاینده­های آلی مورد استفاده قرار گرفته­اند که در این بین، فرآیند فتوکاتالیتیکی به دلیل برخی ویژگی­های منحصر به فرد مورد توجه قرار گرفته است. در این پژوهش، پوشش­های فتوکاتالیست متشکل از دی اکسید تیتانیم (TiO2) و مگنتیت (Fe3O4)به روش پاشش حرارتی HVOF تولید شدند. پودرهای TiO2 (با 75% آناتاز و 25% روتیل) و Fe3O4 تجاری با درصدهای متفاوت با یکدیگر مخلوط و بر روی زیرلایه­ای از جنس فولاد زنگ نزن 316 رسوب داده شدند. برای ارزیابی ساختار، مورفولوژی و توانایی جذب نور پوشش­ها (با نسبت­های مختلف Fe3O4) به ترتیب از پراش پرتو ایکس(XRD)، میکروسکوپ الکترونی روبشی(SEM) و اسپکتروفتومتر UV-Vis-NIR استفاده شده است. به علاوه، ارزیابی بازده فتوکاتالیتیکی پوشش­ها با توانایی تجزیه گاز زایلن تحت تابش نور مریی و UV در فتوراکتور گازی دینامیک انجام شد. نتایج ارزیابی­ها نشان داد که افزودن مقدار بهینه پودر Fe3O4 بر فعالیت فتوکاتالیتیکی پوشش TiO2 در محدوده نور UV و مریی تاثیر می­گذارد. با افزودن 5/7 درصد وزنی مگنتیت، راندمان فرآیند به بیش از 35 درصد رسیده است (تحت تابش پرتو UV). هم چنین با افزودن 10 درصد وزنی مگنتیت، راندمان فرآیند با استفاده از نور مریی به نزدیکی 4 درصد رسیده است.

برای دانلود باید عضویت طلایی داشته باشید

برای دانلود متن کامل این مقاله و بیش از 32 میلیون مقاله دیگر ابتدا ثبت نام کنید

اگر عضو سایت هستید لطفا وارد حساب کاربری خود شوید

منابع مشابه

ارزیابی فعالیت فتوکاتالیتیکی پوشش کامپوزیتی ZnFe2O4-TiO2 ایجاد شده توسط فرایند پاشش شعله ای

در میان روش های مختلفی که برای تخریب آلاینده های شیمیایی مورد استفاده قرار گرفته است، فرایندهای اکسایش پیشرفته (مانند فرایند فتوکاتالیتیکی) به دلیل ویژگی های خاص خود مورد توجه قرار گرفته اند. در این پژوهش، پوشش کامپوزیتی ZnFe2O4-10wt% TiO2 به روش پاشش شعله ای تولید شده است. پودرهای تیتانیا (TiO2 با 75% آناتاز و 25% روتیل) و فریت روی (ZnFe2O4) سنتز شده توسط فرایند آلیاژسازی مکانیکی با یکدیگر مخل...

متن کامل

تأثیر عملیات حرارتی بر ریزساختار و خواص مکانیکی پوشش Cr3C2-NiCr ایجاد شده توسط فرایند HVOF

ایجاد ترکیب سرمتی Cr3C2-NiCr توسط فرایند پاشش سوخت-اکسیژن سرعت بالا (HVOF) منجر به انحلال بخشی از فازهای Cr3C2 در آلیاژ NiCr و افت سختی و مدول الاستیک پوشش می­شود. در این تحقیق، پودر ­Cr3C2-25wt% (Ni-20Cr) توسط فرایند HVOF روی زیرلایه­هایی از جنس سوپر آلیاژ Hastelloy X اعمال شدند. تأثیر عملیات حرارتی بر بازیابی فاز Cr3C2و بهبود سختی و مدول الاستیک پوشش مورد بررسی قرار گرفت. بدین منظور، بررسی ری...

متن کامل

بررسی اثر رنگدانه fe3o4 بر خاصیت نانوفتوکاتالیتیکی پوشش های حرارتی tio2

در این پژوهش شاخص های فتوکاتالیتیکی پوشش های نانوساختار متشکل از tio2 و fe3o4 تولید شده به روش پاشش حرارتی از نوع hvof مورد ارزیابی قرار گرفته است. در این رابطه از نانو پودر آگلومره و گرانوله شده tio2 با (75% آناتاز و 25% روتیل) و fe3o4 تجاری جهت تهیه پوشش نانوساختار استفاده گردید. این مواد با درصدهای متفاوت با یکدیگر مخلوط شده و با استفاده از روش hvof بر روی زیرلایه ای از جنس فولاد زنگ نزن 316...

مقایسه فعالیت فتوکاتالیتیکی TiO2/SiO2 و Pt- TiO2/SiO2 در تخریب رنگ رودامین بی

نانو فتوکاتالیست‌های TiO2/SiO2و Pt- TiO2/SiO2 به روش سل- ژل سنتز شده اند برای بررسی ساختار و ویژگی‌های فتوکاتالیست‌ها از روش‌های .,XRD SEM ,ICP, ,FT-IR و UV-vis استفاده شده است. اندازه ذرات با استفاده از معادله شرر 7nm تعیین شده است. تصویر TEM و نتیجه‌های ICP حضور تیتانیم، سیلسیم و پلاتین را تایید می‌کنند. به منظور بررسی و مقایسه فعالیت فتوکاتالیتیکی TiO2/SiO2 و Pt- TiO2/SiO2 تخریب نوری رنگ رود...

متن کامل

بررسی فعالیت فتوکاتالیتیکی TiO2/SiO2 و V2O5/ TiO2/SiO2 در تخریب منو و دی کلروبنزن

نانو فتوکاتالیست‌های TiO2/SiO2 و V2O5/ TiO2/SiO2 به روش سل- ژل تهیه شده‌اند.,XRD SEM ,FT-IR و UV-Vis برای بررسی ساختار و ویژگی‌های فتوکاتالیست‌ها استفاده شده‌اند. اندازه ذرات با استفاده از معادله شرر 7nm به دست آمده است. نتایج XRD و FT-IR حضور V2O5، TiO2 و SiO2 را تایید می‌کنند. به منظور بررسی و مقایسه فعالیت فتوکاتالیستی TiO2/SiO2 و V2O5/ TiO2/SiO2 تخریب نوری منو و دی کلرو بنزن در محیط آبی تحت...

متن کامل

بررسی خواص پوشش MoS2-Ti ایجاد شده توسط فرآیند پراکنش مگنترونی DC

دی سولفید مولیبدن (MoS2) یکی از رایج‌ترین پوشش‌های روانکار جامد است که تاکنون با استفاده از روش‌های مختلفی، روی سطوح تحت سایش اعمال‌شده است. این پوشش به علت حساسیت بالا به رطوبت کارایی مناسبی در شرایط محیطی ندارد. یک روش برای کاهش حساسیت آن به رطوبت و اکسیژن هم رسوبی MoS2 با عناصر است. در این تحقیق پوشش‌های MoSx/Ti- به روش کندوپاش مغناطیسی جریان مستقیم، روی فولاد اعمال شد. نسبت تیتانیوم در پوشش...

متن کامل

منابع من

با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید

ذخیره در منابع من قبلا به منابع من ذحیره شده

{@ msg_add @}


عنوان ژورنال

دوره 13  شماره 33

صفحات  23- 31

تاریخ انتشار 2017-11-22

با دنبال کردن یک ژورنال هنگامی که شماره جدید این ژورنال منتشر می شود به شما از طریق ایمیل اطلاع داده می شود.

میزبانی شده توسط پلتفرم ابری doprax.com

copyright © 2015-2023