تأثیر تنش خشکی و محلول‌پاشی گلایسین‌بتائین بر مؤلفه‌های فتوسنتزی گیاه نخود

نویسندگان

  • امید علی اکبرپور گروه زراعت و اصلاح نباتات، دانشکده کشاورزی، دانشگاه لرستان، خرم آباد، ایران
  • حمید رضا عیسوند گروه زراعت و اصلاح نباتات، دانشکده کشاورزی، دانشگاه لرستان، خرم آباد، ایران
  • سید حمزه حسینیان دانشجوی دکتری اکولوژی گیاهان زراعی، گروه زراعت و اصلاح نباتات، دانشکده کشاورزی، دانشگاه لرستان، خرم آباد، ایران
  • مهری سعیدی نیا گروه مهندسی آب، دانشکده کشاورزی، دانشگاه لرستان. خرم آباد، ایران.
  • ناصر اکبری گروه زراعت و اصلاح نباتات، دانشکده کشاورزی، دانشگاه لرستان، خرم آباد، ایران
چکیده مقاله:

خشکی از مهم‌ترین تنش‌های محدودکننده رشد گیاهان است و در اکثر مراحل رشد گیاه اثر زیان‌آور و مخربی دارد. استفاده از روش‌های مدیریتی برای کاهش اثرات خشکی اهمیت زیادی دارد. به نظر می‌رسد بتوان با کاربرد گلایسین‌بتائین در گیاهان، تحمل آنها را به شرایط خشکی افزایش داد. به‌منظور بررسی تأثیر تنش خشکی و محلول‌پاشی گلایسین‌بتائین بر مؤلفه‌های فتوسنتزی گیاه نخود، آزمایشی به صورت فاکتوریل در قالب طرح بلوک‌های کامل تصادفی با سه تکرار در گلخانه تحقیقاتی دانشکده کشاورزی دانشگاه لرستان در سال 1396 انجام شد. فاکتورهای آزمایش شامل تنش خشکی در چهار سطح (شاهد، 75، 50 و 25 درصد نیاز آبی گیاه) و محلول‌پاشی گلایسین‌بتائین در سه سطح (صفر، 25 و 50 میلی‌مولار) بودند. نتایج نشان داد که تنش خشکی سبب کاهش معنی‌دار در سطح احتمال یک درصد فاکتورهای فتوسنتز، تعرق، هدایت روزنه‌ای، دی‌اکسید کربن درون سلولی، کارایی مصرف آب فتوسنتزی و کارایی کربوکسیلاسیون شد، اما گلایسین‌بتائین به طور قابل توجهی این مؤلفه‌ها را بهبود بخشید. کاربرد گلایسین‌بتائین باعث افزایش فتوسنتز گیاه در شرایط تنش خشکی شد، که بیشتر به علت افزایش هدایت روزنه‌ای و کارایی کربوکسیلاسیون در جذب دی‌اکسید کربن است. به طور کلی، می‌توان نتیجه گرفت که محلول‌پاشی برگی گلایسین‌بتائین (25 میلی‌مولار)؛ مؤلفه‌های فتوسنتزی را در شرایط تنش خشکی بهبود می‌بخشد و باعث تحمل بیشتر نخود در برابر تنش خشکی می‌شود.

برای دانلود باید عضویت طلایی داشته باشید

برای دانلود متن کامل این مقاله و بیش از 32 میلیون مقاله دیگر ابتدا ثبت نام کنید

اگر عضو سایت هستید لطفا وارد حساب کاربری خود شوید

منابع مشابه

تأثیر سایکوسل بر فعالیت‌های فتوسنتزی و اسانس گیاه رازیانه (Foeniculum vulgare) تحت تنش خشکی

خشکی به معنای کمبود رطوبت قابل استفاده خاک، مهم‌ترین تنش محیطی است که رشد و توسعه گیاهان را محدود می‌کند. فتوسنتز نیز فرآیند اصلی تعیین کننده رشد گیاهان است و توانایی حفظ این فرآیند در شرایط تنش‌های محیطی برای حفظ ثبات رشد مهم است. برای بررسی اثر سایکوسل بر فعالیت‌های فتوسنتزی و اسانس رازیانه تحت تنش خشکی، آزمایشی به صورت اسپلیت پلات با سه سطح خشکی: شاهد، تنش ملایم و تنش شدید به عنوان عامل اصلی...

متن کامل

تأثیر محلول‌پاشی متانول بر ویژگی‌های فتوسنتزی، فلوئورسانس کلروفیل و محتوای کلروفیل نخود (Cicer arietinum L.) تحت تنش خشکی

به منظور بررسی اثر محلول‌پاشی متانول بر ویژگی‌های فتوسنتزی، فلوئورسانس و محتوای کلروفیل در گیاه نخود تحت تنش خشکی آزمایشی به صورت فاکتوریل در قالب طرح کاملاً تصادفی با سه تکرار در شهریورماه سال 1390 در پژوهشکده علوم گیاهی دانشگاه فردوسی مشهد انجام شد. محلول‌پاشی متانول در 5 سطح: شاهد (بدون محلول‌پاشی)، 20، 25، 30 و 35 درصد حجمی انجام شد که به هر کدام از سطوح 2 گرم در لیتر گلایسین اضافه شد. محلول...

متن کامل

تأثیر متانول بر خصوصیات مورفولوژیکی گیاه نخود (Cicer arietinum L.) تحت تنش خشکی

آب قابل دسترس، عامل اصلی محدود کننده رشد و تولید محصول در مناطق خشک می‌باشد. نتایج بررسی‌ها مؤید این است که محلول­پاشی متانول نقش مؤثری در تحمل به خشکی گیاهان 3 کربنه دارد. در این راستا به منظور بررسی اثر محلول پاشی متانول بر خصوصیات مورفولوژیکی نخود (رقم کرج) در شرایط تنش خشکی آزمایشی به صورت فاکتوریل در قالب طرح کاملاً تصادفی با سه تکرار در شهریور سال 90 در پژوهشکده علوم گیاهی دانشگاه فردوسی م...

متن کامل

تأثیر سایکوسل بر فعالیت های فتوسنتزی و اسانس گیاه رازیانه (foeniculum vulgare) تحت تنش خشکی

خشکی به معنای کمبود رطوبت قابل استفاده خاک، مهم ترین تنش محیطی است که رشد و توسعه گیاهان را محدود می کند. فتوسنتز نیز فرآیند اصلی تعیین کننده رشد گیاهان است و توانایی حفظ این فرآیند در شرایط تنش های محیطی برای حفظ ثبات رشد مهم است. برای بررسی اثر سایکوسل بر فعالیت های فتوسنتزی و اسانس رازیانه تحت تنش خشکی، آزمایشی به صورت اسپلیت پلات با سه سطح خشکی: شاهد، تنش ملایم و تنش شدید به عنوان عامل اصلی...

متن کامل

منابع من

با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید

ذخیره در منابع من قبلا به منابع من ذحیره شده

{@ msg_add @}


عنوان ژورنال

دوره 8  شماره 2

صفحات  227- 236

تاریخ انتشار 2018-09-23

با دنبال کردن یک ژورنال هنگامی که شماره جدید این ژورنال منتشر می شود به شما از طریق ایمیل اطلاع داده می شود.

میزبانی شده توسط پلتفرم ابری doprax.com

copyright © 2015-2023