پیشرفت در ساخت تجهیزات الکترونیکی با ابعاد نانومتر و میکرومتر نیازمند استفاده از روش ها و دستگاه های جدید برای کنترل و پردازش ویژگی های آنها است. یکی از عوامل موثر در خاصیت فیزیکی این وسایل، ناهمواری سطح (زبری ) است که در ادو ات نوری و آینه های اشعهx و ... بسیار مهم است. اهمیت این عامل باعث شده است روش های زیادی برای استخراج این کمیت ابداع و به کار گرفته شود. با استفاده از روش تداخل سنجی ناهمواری سطح نمونه را اندازه می گیریم. در این روش هر پستی و بلندی نسبت به سطح میانگین باعث جابه جایی فریزها می شود. با اندازه گیری این تغییرات، زبری سطح به دست آمده است. با این وجود بدلیل لرزش های پیرامون سیستم اندازه گیری، حذف ارتعاش و نویز در حین فرآیند مشخصه یابی ضروری است. در طول این فعالیت پژوهشی، در ابتدا با طراحی یک پلات فرم اپتیکی مشتمل بر یک سیستم عامل میکروکنترلری ابداعی همراه با سخت افزار متناظر با آن و سپس با بکارگیری مجموعه فوق در چینش های متنوع تداخل سنجی، تلاش گردید تا رفتار مجموعه وسیعی از سیستم های اندازه گیری اپتیکی نسبت به ارتعاش ها و نویز محیط بررسی شده و کاهش یابد. این عمل با اعمال سیگنالینگ های متفاوت به کریستال پیزوالکتریک جهت ایجاد شیفت فاز انجام شده است. تکنیک شیفت فاز، روشی معمول برای ارزیابی توزیع فاز طرح تداخلی می باشد. در این روش، یکی از پرتوهای نور در چیدمان تداخلی نسبت به پرتو دیگر، یک شیفت فاز مشخص داده می شود و شدت حاصل ثبت می شود، جهت آنالیز فریزهای تشکیل شده حاصل از 4 شیفت فاز که به وسیله آینه مرجع متصل به پیزوالکتریک ایجاد شده، از تکنیک carre استفاده و شدت فریزها و همچنین به این وسیله پروفایل های سطح کریستال را بدست آورده ایم. علاوه بر این با درنظر گرفتن سناریوهای متفاوت در محصول طراحی شده، سعی گردید دستگاه اندازه گیری در محدوده وسیعی و بشکلی مستقل از رایانه توانایی مشخصه یابی محدوده وسیعی از سطوح و همچنین بررسی و تجزیه و تحلیل مشخصه حرکتی و جیتر سطوح متحرک را داشته باشد.