اکسایش 1و4-دی استیل بنزن با استفاده از seo2 در حلال دی اکسان در حضور مقدار کمی آب تحت شرایط رفلاکس تولید بیس گلی اکسال را با راندمان 75 % نمود. واکنش تک ظرفی سه جزئی بیس گلی اکسال¬ها با ترکیبات متیلن دار فعال و هیدرازین در حلال dmf و شرایط mw تولید مشتقات ترکیبات بیس¬سینولینی مختلف را با راندمان بالا نمود. ساختار ترکیبات بیس¬سینولینی تهیه شده با استفاده از داده¬ها¬ی طیفی 1h-nmr و ft-ir مورد تایید قرار گرفت.