در این تحقیق، لایه های نازک نیمرسانای شفاف اکسید روی آلائیده با فلوئور zno:f) ) به روش اسپری پایرولیزیز بر روی بسترهای شیشه ای تهیه شده است. تاثیر ناخالصی فلوئور بر روی خواص ساختاری، الکتریکی، اپتیکی، ترموالکتریکی و فوتورسانایی لایه های نازک zno) ) بررسی شد. نسبت های اتمی فلوئور به روی (x=[f]/[zn]) از 0 تا 80% در محلول اسپری تغییر داده شد. نتایج به دست آمده از آنالیز xrd تشکیل ساختار بس بلور ورتسایت با جهت گیری ارجح (002) را نشان داد. کمترین مقاومت سطحی برابر با (m?/sq.) 18/2 و بالاترین چگالی حامل ها از مرتبه 1014 برای نمونه zno:f (20 at.%) به دست آمد. اندازه گیری های اثر هال و سیبک رسانش نوع n در همه نمونه های جایگذاری شده را نشان دادند. شفافیت اپتیکی لایه ها در محدوده 50 تا 90 % در ناحیه مرئی تغییر کرد. با افزایش سطح ناخالصی فلوئور گاف نواری از 27/3 به 23/3 الکترون ولت کاهش یافت. هم چنین لایه های اکسید روی آلائیده به فلوئور خواص فوتورسانایی بهتری نسبت به نمونه اکسید روی خالص از خود نشان دادند.