چکیده نیاز روزمره به پیشرفت در ماشین کاری و رسیدن به فناوری غنی تری در زمینه ی صافی سطح در دهه های گذشته محققین را بر آن داشت تا به ابداع فرایندهای تازه تر و روش های جدیدی بپردازند. پس از سال ها بررسی و کنکاش امروزه محققین به روش هایی دست پیدا کرده اند که می توان توسط آن ها به پرداخت سطحی در مقیاس نانو دست یافت. روش ماشین کاری دورانی توسط سیال ساینده ی هوشمند که موضوع بحث این نوشتار می باشد، روشی است بسیار تازه و کارآمد که کاربرد اصلی آن در پرداخت کاری سطوح داخلی است. فرایند و روش کار آن به این ترتیب است که با اعمال میدان مغناطیسی دورانی بر روی سیال ساینده و در پی آن جامد شدن سیال و اعمال همزمان نیروی فشاری به آن، پرداخت کاری روی سطح مورد نظر انجام خواهد پذیرفت. به سبب کارایی بسیار بالا و همچنین انعطاف مناسب این روش می توان آن را در کاربردهای صنعتی خاص که نیاز به دقت فراوان در صافی سطح و در مقیاس نانومتر دارند به کار برد و بهینه کرد. هدف از انجام تحقیقی که پیش رو دارید بررسی سه پارامتر سرعت دوران میدان مغناطیسی، زمان بالا رفتن جک هیدرولیک و نیز اندازه ی میدان مغناطیسی بر صافی سطح نهایی بود. پس از کسب نتایج حاصل مشخص شد که زمان بالا رفتن جک در مقدار یک ثانیه و اندازه ی میدان مغناطیسی در 200 میلی تسلا و سرعت دوران میدان مغناطیسی در 60 دور بر دقیقه بهترین جواب را داراست و بهترین صافی سطح ra به دست آمده مقداری براربر با 60 نانومتر را دارا می باشد.