در این پژوهش شاخص های فتوکاتالیتیکی پوشش های نانوساختار متشکل از tio2 و fe3o4 تولید شده به روش پاشش حرارتی از نوع hvof مورد ارزیابی قرار گرفته است. در این رابطه از نانو پودر آگلومره و گرانوله شده tio2 با (75% آناتاز و 25% روتیل) و fe3o4 تجاری جهت تهیه پوشش نانوساختار استفاده گردید. این مواد با درصدهای متفاوت با یکدیگر مخلوط شده و با استفاده از روش hvof بر روی زیرلایه ای از جنس فولاد زنگ نزن 316 رسوب داده شدند. اثر تغییر درصد میزان پودر fe3o4 بر شاخص-های فازی، ساختاری، سطحی و فتوکاتالیتیکی پوشش ها مورد بررسی قرار گرفت. برای ارزیابی ساختار میکروسکوپی، آنالیز فازی، توانایی جذب نور و شیمی سطح به ترتیب از میکروسکوپ الکترونی روبشی(sem)، پراش پرتو ایکس(xrd)، اسپکتروفتومتر uv-vis-nir و اسپکترومتر ft-ir استفاده گردید. در نهایت ارزیابی اکتیویته و بازده فتوکاتالیتیکی و بازه پایداری پوشش ها با توانایی تجزیه گاز زایلن پوشش ها تحت تابش نور مرئی و uv در فتوراکتور گازی دینامیک انجام گرفت. نتایج ارزیابی ها نشان داد که افزودن مقدار بهینه پودر fe3o4 به مقدار زیادی برخاصیت فتوکاتالیتیکی پوشش tio2 خالص در محدوده نور uv و تا حدی در محدوده نور مرئی تأثیر می گذارد. این مقدار بهینه بسته به کاربردهای پوشش متفاوت است به طور مثال در مواردی که تغییرات بالای غلظت آلودگی در زمان های کوتاه دارای اهمیت است نمونه ای که دارای کمترین ثابت اکتیویته فتوکاتالیتیکی است بهترین انتخاب می باشد، همچنین اگر از اهمیت بُعد زمان کاسته شود نمونه ای با بالاترین بازده انتخاب صحیحی است که در هر دو این موارد بحث پایداری نمونه در شرایط کاری می تواند از اهمیت ویژه ای برخوردار باشد.