علی‌اصغر اروجی
دانشگاه سمنان - دانشکده مهندسی برق و کامپیوتر
[ 1 ] - طراحی ساختاری از ترانزیستور ماسفت دوگیتی با به‌کارگیری دو ماده، اکسید هافنیم (HfO2) و سیلیسیم-ژرمانیوم (SiGe) در کانالی از جنس سیلیسیم (DM-DG)
در این مقاله ساختار جدیدی از ترانزیستور دوگیتی به نام ترانزیستور DM-DG ارائه‌شده است. در این ساختار با به کار بردن عایق HfO2 در مرز ناحیه کانال و درین و همین‌طور استفاده از سیلیسیم-ژرمانیوم در ناحیه سورس منجر به بهبود ساختار در مقایسه با ساختارهای متداول دوگیتی (C-DG) شده است. ناحیه عایق HfO2 به‌طور قابل‌توجهی میدان الکتریکی را در ناحیه کانال و درین کاهش می‌دهد؛ بنابراین فرآیندهای مخرب در ساختا...
[ 2 ] - ترانزیستور اثر میدان فلز-نیمه هادی در تکنولوژی سیلیسیم روی عایق با استفاده از یک تکه اکسید اضافی در کانال برای کاربردهای توان و فرکانس بالا
چکیده: در این مقاله یک ساختار جدید از ترانزیستور اثر میدانی فلز نیمههادی در تکنولوژی SOIمعرفی میشود که مشخصات DCو فرکانسی بهتری نسبت به ساختارهای متداول دارد. ایده اصلی مقاله بر مبنی تغییر چگالی حاملها توسط یک تکه اکسید اضافی چسبیده به لایه مدفون اکسید در سمت درین است. بهبود عملکرد قطعه توسط شبیهساز دوبعدی بررسی میشود. در ساختار پیشنهادی ولتاژ شکست از V13 در ساختار متداول به V19 در ساخ...
[ 3 ] - A Novel SOI MESFET by Implanted N Layer (INL-SOI) for High Performance Applications
This paper introduces a novel silicon-on-insulator (SOI) metal–semiconductor field-effect transistor (MESFET) with an implanted N layer (INL-SOI MESFET) to improve the DC and radio frequency characteristics. The DC and radio frequency characteristics of the proposed structure are analyzed by the 2-D ATLAS simulator and compared with a conventional SOI MESFET (C-SOI MESFET). The simulated result...
[ 4 ] - ترانزیستور ماسفت سه‌گیتی با استفاده از دیود تونل‌زنی سیلیسیم-ژرمانیم برای بهبود اثر بدنه شناور
در این مقاله ساختار جدیدی برای ترانزیستور سه‌گیتی (SG-TD) ارائه شده است. در این ساختار با به کار بردن سیلیسیم-ژرمانیوم در ناحیه سورس و ایجاد تونل‌زنی به درون ناحیه سورس، مشخصه‌های ماسفت سه‌گیتی در مقایسه با ساختار ماسفت‌های سه‌گیتی مرسوم (C-TG) بهبود داده شده است. در ساختار پیشنهادی علاوه بر اینکه عایق بودن ترانزیستور در زیر کانال حفظ میشود، اثرات منفی آن نیز کاهش می‌یابد. در ساختار ارائه شده...
[ 5 ] - Performance Improvement of Field Effect Diodes (FED) for Nanotechnology
One of the main problems of field effect diode (FED) is the increasing of its turn-off current as the channel length decreases. Thus, in this paper, a new structure is presented which decreases the injection of extra carriers to the channel and also increases the control of the gate over the channel by reducing the portion of channel shared with the source and drain regions and without the need...
Co-Authors