علی نادری
گروه مهندسی برق، دانشکده انرژی، دانشگاه صنعتی کرمانشاه
[ 1 ] - ساختار جدید ترانزیستور اثر میدانی نانو لوله کربنی تونل زنی با دوپینگ خطی در ناحیه درین: شبیه‌سازی عددی کوانتومی
برای اولین بار، در این مقاله یک ترانزیستور اثر میدانی نانو لوله کربنی تونل زنی جدید پیشنهاد شده است که در این ساختار جدید به جای استفاده از یک دوپینگ سنگین در ناحیه درین ساختار متداول، از یک دوپینگ خطی استفاده شده است. این دوپینگ از وسط ناحیه درین به صورت خطی به سمت ناحیه کانال گسترش یافته است. میزان ناخالصی در محل اتصال کانال-درین صفر است. این ساختار ترانزیستور اثر میدانی نانو لوله کربنی تونل ...
[ 2 ] - ساختار جدید ترانزیستور اثر میدانی نانولوله کربنی با ناخالصی‌های سبک در کانال و دی‌الکتریک دو قسمتی
Carbon nanotube field effect transistors (CNTFETs), are considered as a proper candidate to improve the silicon transistor performance at short channel regime. In this paper a novel CNTFET with lightly doped channel and dual section dielectric (LIC-DSD-CNTFET) is proposed. This structure is compared with conventional (C-CNTFET) and dual section dielectric (DSD) structures with similar dimension...
[ 3 ] - Band bending engineering in p-i-n gate all around Carbon nanotube field effect transistors by multi-segment gate
The p-i-n carbon nanotube (CNT) devices suffer from low ON/OFF current ratio and small saturation current. In this paper by band bending engineering, we improved the device performance of p-i-n CNT field effect transistors (CNTFET). A triple gate all around structure is proposed to manage the carrier transport along the channel. We called this structure multi-segment gate (MSG) CNTFET. Band to ...
[ 4 ] - Band bending engineering in p-i-n gate all around Carbon nanotube field effect transistors by multi-segment gate
The p-i-n carbon nanotube (CNT) devices suffer from low ON/OFF current ratio and small saturation current. In this paper by band bending engineering, we improved the device performance of p-i-n CNT field effect transistors (CNTFET). A triple gate all around structure is proposed to manage the carrier transport along the channel. We called this structure multi-segment gate (MSG) CNTFET. Band to ...
[ 5 ] - بهبود عملکرد ترانزیستور اثر میدانی نانولوله کربنی تونل‌زنی در حضور ناهمپوشانی
یکی از موارد مهم در فرآیند ساخت افزاره‌ها در مقیاس نانومتر، آندرلپ بین ناحیه گیت و نواحی درین– سورس است. در این مقاله برای اولین بار اثر آندرلپ بین ناحیه گیت و نواحی درین- سورس برای ترانزیستور اثر میدانی نانولوله کربنی تونل‌زنی بررسی شده است. برای مطالعه و شبیه‌سازی مشخصات الکتریکی افزاره از حل خودسازگار معادله‌های پواسون- شرودینگر و روش تابع گرین غیرتعادلی استفاده شده است. عملکرد افزاره برحسب ...
Co-Authors