علی نصیری
پژوهشکدهی فیزیک پلاسما و گداخت هستهای، پژوهشگاه علوم و فنون هستهای، سازمان انرژی اتمی،
[ 1 ] - تأثیر پارامترهای الکتریکی دستگاههای پلاسمای کانونی نوع مَدِر بر انرژی پرتو ایکس سخت
در این مقاله پس از مروری بر تاریخچهی دستگاههای پلاسمای کانونی، موضوع کانونی شدن پلاسما مطرح، و در پی آن دو دستگاه جدید پلاسمای کانونی نوع مَدِر و نتایج پژوهشی حاصل از مقایسهی آنها معرفی میشوند. هدف اصلی این پژوهش، بررسی چگونگی تأثیر ظرفیت بانک خازنی C0 و القائیدگی مدار L0 ، بر انرژی پرتو ایکس سخت گسیل شده از دستگاههای پلاسمای کانونی نوع مَدِر بوده است. این پژوهش نشان داد که تـأثیر کاهش...
[ 2 ] - بررسی سرعت حرکت لایهی جریان در یک دستگاه پلاسمای کانونی با انرژی 2.2 کیلوژول
این مقاله پس از معرفی اجمالی دستگاه پلاسمای کانونی 1-MTPF، نمونههایی از دادههای تجربی آن را ارایه میدهد. دادهها نشان میدهند که میتوان با انتخاب فشار گاز و ولتاژ تخلیهی مناسب، شرایطی را فراهم کرد تا تنگش پلاسما در محدودهی خاصی از زمان اتفاق بیفتد. علاوه براین، تأثیر فشار گاز و ولتاژ تخلیه بر سرعت متوسط حرکت لایهی جریان نیز مورد بررسی قرار گرفت که نشان داد که در صورت استفاده از گاز آرگون...
[ 3 ] - بررسی اثرات پالس پروتونهای پرانرژی بر خواص سطحی و ساختاری مس و تنگستن توسط دستگاه پلاسمای کانونی MTPF-2
در این مقاله نتایج به کارگیری دستگاه پلاسمای کانونی کمانرژی MTPF-2 در بررسی اثرات تخریبی یونهای پرانرژی و موج ضربه بر سطوح تنگستن و مس ارایه شده است. تنگستن به عنوان یک فلز نسبتاً سخت و مس به عنوان یک فلز نسبتاً نرم انتخاب شدهاند. نمونههای تنگستن و مس در فاصله 8 سانتیمتری از سطح آند و در زاویه صفر درجه نسبت به محور تقارن قرار داده شده و همزمان با یونها و موج ضربه حاصل از 20 تخلیه الک...
[ 4 ] - Damage studies on irradiated tungsten by helium and argon ions in a plasma focus device
Damage of tungsten due to helium and argon ions of a PF device was studied. Tungsten samples were irradiated by 20 shots of the plasma focus device with argon and helium as working gases, separately. The tungsten surface was analyzed by SEM, before and after irradiation. SEM revealed dense blisters with diameters of a few hundred nanometers, on the samples which were irradiated by helium ions, ...