شاهرخ آهنگرانی

سازمان پژوهش‌های علمی و صنعتی ایران، پژوهشکده مواد پیشرفته و انرژی‌های نو، تهران، ایران

[ 1 ] - نقش عملیات حرارتی در استحاله فازی و تغییر ویژگی های الکترونیکی فیلم‌های سیلیکون

فیلم‌هایی از سیلیکون آمورف به روش لایه­نشانی فیزیکی فاز بخار به کمک پرتو الکترونی (EB-PVD) ایجاد شد. فرآیند لایه­نشانی در شرایط خلأ بالا (torr 6-10) که منجر به تشکیل یک پوشش آمورف البته با ضخامت‌های کنترل‌شده انجام شد. پس از نمونه‌سازی، نمونه‌ها در دمای oC800 و در محیط گاز خنثی تحت شرایط عملیات حرارتی قرار گرفت و ویژگی‌های ساختاری و الکتریکی آن قبل و بعد از عملیات حرارتی م...

Co-Authors