جداسازی و شناسایی مولکولی یک سویه جدید از Microbacterium resistens، قادر به تحمل شرایط سخت

مقدمه: استفاده از باکتری­های مقاوم به اشعه، فرابنفش و دیگر شرایط سخت، برای پاک‏سازی زیستی و بازیابی فلزات موجود در زباله­های محیطی و صنعتی به خاطر توانایی بقا و کاتالیز عملکردی مطلوب تحت شرایط استرس بالای اشعه بسیار حائز اهمیت است. مواد و روش‏‏ها: پس از غربال‏گری اولیه و ثانویه به‏وسیله تابش اشعه با لامپ UV، یک جدایه به‏دست آمد که براساس ویژگی­های ریخت‏شناسی و بیوشیمیایی، تعیین توالی ژن S rRNA16 و تحلیل فیلوژنتیک، شناسایی شد. به منظور مطالعه ویژگی‏های مقاومت جدایه فوق، سویه در معرض برخی شرایط سخت از قبیل اشعه فرابنفش (25 ژول)، خشکی (28 روز)، هیدروژن پراکسید (1 تا 5 درصد)، میتومایسین C (1 تا 8 میکروگرم)، غلظت­های مختلف نمک (5 تا 25 درصد) و مقادیر مختلف اسیدیته ‏(1تا 11) گذاشته و رشد یا بقای باکتری در محیط TGY به‏وسیله اسپکترومتری یا فلوسیتومتری ارزیابی شد. نتایج: جدایه MG6 باکتری میله­ای گرم مثبت مقاوم به اشعه فرابنفش بود که توالی S rRNA16 آن 7/99 درصد ‏‏شباهت با Microbacterium resistens نشان داد. این شباهت با تحلیل فیلوژنتیک تائید شد. رشد بهینه سویه در اسیدیته 5 ‏و غلظت 5 درصد ‏‏کلریدسدیم دیده شد. همچنین به غلظت 1تا 4 درصد ‏‏ هیدروژن­پراکسید و 2 میکروگرم میتومایسین C مقاومت نشان داد. تحلیل میزان بقا نشان داد که این سویه در مقایسه با Deinococcus radioduransR1 مقاومت بالایی در برابر اشعه فرابنفش، ولی در برابر خشکی مقاومت متوسطی دارد. بحث و نتیجه‏گیری: در این تحقیق، سویه جدیدی از M. resistensجداسازی شد که مقاوم به اشعه UV بود و تحمل برخی شرایط سخت مثل اسیدیته، عوامل اکسیدان و موتاژن، شوری و خشکی را نیز نشان داد. مقاومت سویه MG6 به اشعه UV قابل مقایسه با سویه مقاوم به اشعه D. radioduransR1 بود. تحقیق حاضر اولین گزارش درباره مقاومت به شرایط سخت سویه جدید M. resistens در ایران می­باشد.