بهبود رفتار ترشوندگی سل حاوی تنگستن برای تهیه لایه‌های نازک اکسید تنگستن

author

Abstract:

در این کار لایه�های اکسید تنگستن بر روی الکترود شفاف اکسیدی و همچنین شیشه نوری با استفاده از روش فروبری در سُل?های پایه آبی و الکلی آماده و سپس در 400 درجه عملیات حرارتی گردیدند. ترشوندگی لایه?های مورد استفاده توسط سُل?های آماده شده نیز با مشاهدات چشمی و تصویربرداری بررسی شد. لایه�های آماده شده با میکروسکوپ الکترونی روبشی، پراش اشعه X و همچنین ولتامتری چرخه�ای در محلول اسیدسولفوریک مورد مطالعه قرار گرفتند. نتایج نشان می�دهد که زیرلایه�های مورد استفاده توسط سُل?های آبی آماده شده، ترشوندگی نامطلوبی دارند در حالی که سل?های پایه آبی - الکلی به خوبی دو زیر لایه مورد استفاده را تر می�کنند. ترشوندگی زیر لایه حین خشک کردن در صورت استفاده از اتانول در سل?های مخلوط آبی - الکلی کاهش می?یابد این مشکل با استفاده از یک الکل سنگین ) لوریک الکل( مرتفع گردید که این کار به عنوان روش بهینه تهیه سل برای لایه نشانی اکسید تنگستن با استفاده ازاسید هیدروکسی تنگستیک تهیه شده از پیش?ماده سدیم تنگستات تعیین گردید. نتایج نشان می�دهد که حضور لوریک الکل اندازه دانه�ها و بلورک?ها را از حدود 40 نانومتر تا زیر 20 نانومتر کاهش می�دهد و فاز لایه نیز از مونوکلینیک به تریکلینیک تبدیل می�شود. داده�های ولتامتری چرخشی نیز خواص بهبود یافته الکتروکرمیک لایه اکسید تنگستن آماده شده را تایید می�کند.

Upgrade to premium to download articles

Sign up to access the full text

Already have an account?login

similar resources

اثر افزایش اکسید تنگستن بر خواص حفاظت فوتوکاتدی پوشش‌های تیتانیایی تهیه شده به روش سل-ژل

(اکسید تیتانیوم) تیتانیا یکی از ترکیباتی است که تحت تاثیر طیف ماوراء بنفش نور طبیعی فوتواکتیو می­شود .دیده شده که افزایش اکسید تنگستن این خاصیت را در برابر نورهای مصنوعی بهبود می­بخشد. دراین پژوهش، سل تیتانیوم با استفاده از پیش­ماده آلکوکسیدی تهیه و سدیم­تنگستات­دی­هیدراته به عنوان پیش­ماده اکسید­تنگستن در درصد­های مختلف به آن اضافه گردید و تاثیر آن بر روی خواص حفاظت کنندگی فوتوکاتدی پوشش­ها بر...

full text

بررسی الکترواپتیکی لایه‌های نازک اکسید تنگستن و اکسید وانادیوم به منظور طراحی قطعه الکتروکرومیک

In this study, tungsten oxide and vanadium oxide electrochromic thin films were placed in vacuum and in a thickness of 200 nm on a transparent conductive substrate of SnO2:F using the physical method of thermal evaporation. Then they were studied for the optical characteristics in the wavelength range from 400 to 700 nm and for their electrical potentials in the range form +1.5 to -1.5 volts. T...

full text

تأثیر دمای بازپخت بر ویژگی‌های اپتیکی و الکتروکرومیکی فیلم‌های نازک اکسید تنگستن

Tungsten trioxide (WO3) thin films were coated onto fluorine tin oxide coated glass substrates, using electrodeposition technique via aqueous solution of peroxotungstic acid. WO3 films were evaluated as a function of annealing temperature (60°C, 100°C, 250°C and 400°C). The films were analyzed by field emission Scanning Electron Microscopy (SEM), UV-visible spectrometer and cyclic voltammogram....

full text

بررسی الکترواپتیکی لایه های نازک اکسید تنگستن و اکسید وانادیوم به منظور طراحی قطعه الکتروکرومیک

در این مطالعه لایه­های نازک الکتروکرومیک اکسید تنگستن و اکسید وانادیوم به روش فیزیکی تبخیر حرارتی در خلأ در ضخامت 200 نانومتر بر روی زیر لایه هادی شفاف sno2:f جایگذاری شده و مورد مطالعه اپتیکی در بازه طول موج 400 تا 700 نانومتر و مطالعه الکتریکی در بازه پتانسیل 5/1- تا 5/1+ ولت قرار گرفته­اند. همچنین این لایه­ها به منظور بررسی میزان تغییر گاف انرژی با دما، در دماهای 120، 300 و 500 درجه سیلسیوس ...

full text

My Resources

Save resource for easier access later

Save to my library Already added to my library

{@ msg_add @}


Journal title

volume 3  issue 4

pages  63- 69

publication date 2635-05-22

By following a journal you will be notified via email when a new issue of this journal is published.

Hosted on Doprax cloud platform doprax.com

copyright © 2015-2023