بررسی اثر دمای زیرلایه بر خواص ساختاری و فیزیکی لایه نازک کربن انباشت شده به روش کندوپاش پرتو یونی
Authors
Abstract:
در تحقیق حاضر اثر دمای زیرلایه در محدوده ºC 400-36 بر خواص ساختاری و فیزیکی لایه نازک کربن ایجاد شده بر سطح شیشه به روش کندوپاش پرتو یونی بررسی شده است. خواص نوری و ساختاری لایه به ترتیب به وسیله طیف سنجی UV-visible، طیف سنجی رامان و میکروسکوپ نیروی اتمی مورد مطالعه قرار گرفته است. اندازهگیری طیف عبور نمونه ها کاهش میزان عبور نور در محدوده مرئی با افزایش دمای انباشت را نشان می دهد. طیف رامان لایه ها نشان می دهد که ساختار لایه نازک کربن آمورف با افزایش دمای انباشت به سمت کربن آمورف گرافیتی تغییر میکند. بررسی لایه های انباشت شده در دمای بالاتر از ºC100 نشاندهنده روند کاهشی مقاومت الکتریکی اندازهگیری شده توسط روش چهار کاوه و انرژی نوار ممنوعه با افزایش دمای انباشت می باشد. در حالی که نتایج بررسی مورفولوژی سطح افزایش زبری سطح در اثر افزایش دمای زیرلایه را نشان می دهد. در نمونه های انباشت شده در دمای ºC100، حداقل اندازه خوشه های کریستالی گرافیتی با پیوندهایsp2 برابر با nm 36/0 و حداکثر انرژی نوار ممنوعه برابر با eV 3 می باشد.
similar resources
تاثیر دمای زیرلایه بر رشد نانوذرات نقره انباشت شده بر روی شیشه سفید به روش کندوپاش مغناطیسی
در این تحقیق با استفاده از روش کندوپاش مغناطیسی DC نانولایههای نقره با ضخامت nm 100 بر روی شیشه سفید (به ضخامت mm 4( برای استفاده به عنوان آینه خورشیدی در دماهای زیرلایه متفاوت انباشت شد. تاثیر افزایش دمای زیرلایه (K 500-300) در هنگام لایهنشانی بر رشد نانوذرات نقره بررسی شد. خواص لایههای نقره با دستگاههای XRD و SEM مورد بررسی قرار گرفت. لایه نقره کندوپاشی در دماهای مختلف زیرلایه از مدل ساخت...
full textتأثیر زمان لایه نشانی بر خواص ساختاری و فیزیکی پوشش های کربنی لایه نشانی شده با روش کندوپاش مگنترونی
full text
تأثیر زمان لایه نشانی بر خواص ساختاری و فیزیکی پوشش های کربنی لایه نشانی شده با روش کندوپاش مگنترونی
full text
مشخصه یابی خواص لایه نازک الکترواپتیکی ZnO:Alساخته شده به روش ترکیبی کندوپاش پلاسمایی ساده و اکسیداسیون حرارتی
علاقه به تحقیق و پژوهش در زمینه پلاسماهای غباری که رشته جدیدی در فیزیک پلاسما میباشد با توسعه صنعت میکروالکترونیک رشد چشمگیری داشته است. ذرات غبار که تا کنون به عنوان آلودگی در نظر گرفته میشدند، امروزه در فنآوری های لایه گذاری برای صنایع میکروالکترونیک، اپتیک، الکترواپتیک استفاده میشوند. در اینجا ما روی پوشش با ذرات غبار از طریق ایجاد لایه نازک ZnO:Al کار میکنیم. ذرات غبار Zn وAl میباشند....
full textتاثیر زمان کندوپاش پرتو یونی بر خواص ساختاری، چسبندگی و خوردگی پوشش نانوساختار نیتریدزیرکونیوم بر روی آلیاژ AZ91
full text
تاثیر دمای زیرلایه بر روی خواص نانوساختاری لایه نیترید زیرکونیوم
در این تحقیق تاثیر دمای زیر لایه در محدودهC˚450-100 برخواص ساختاری لایههای نیترید زیرکونیوم که بهروش کندوپاش شعاع یونی روی زیر لایه شیشه وسیلیکون تهیه شده است، مورد بررسی قرار گرفته است. تعین ضخامت لایهها با استفاده از آنالیز RBS (طیف پس پراکندگی رادرفورد) وتعیین فازهای کریستالی با توجه به آنالیز XRD (پراش پرتو X) انجام شدهاست. نتایج XRD نشان داد که با افزایش دما تا C˚400 بر میزان...
full textMy Resources
Journal title
volume 11 issue 4
pages 1- 10
publication date 2018-02-20
By following a journal you will be notified via email when a new issue of this journal is published.
Hosted on Doprax cloud platform doprax.com
copyright © 2015-2023