Numerical simulation of aerodynamic heating and stresses of chemical vapor deposition ZnS for hypersonic vehicles

نویسندگان
چکیده

برای دانلود باید عضویت طلایی داشته باشید

برای دانلود متن کامل این مقاله و بیش از 32 میلیون مقاله دیگر ابتدا ثبت نام کنید

اگر عضو سایت هستید لطفا وارد حساب کاربری خود شوید

منابع مشابه

Parallel Computation in Hypersonic Aerodynamic Heating Problem

A parallel computational fluid dynamics code has been developed for the study of aerodynamic heating problem in hypersonic flows. The code employs the 3D Navier-Stokes equations as the basic governing equations to simulate the laminar hypersonic flow. The cell centered finite volume method based on structured grid is applied for spatial discretization. The AUSMPW+ scheme is used for the invisci...

متن کامل

chemical recycling of polycarbonate waste using conventional heating and microwave assisted method

پلی کربنات یکی از پلاستیکهای مهمی است که به صورت گسترده در تولید لوحهای فشرده، قطعات رایانه، مواد ساختمانی و غیره مورد استفاده قرار می گیرد. این پلیمر بصورت عمده از تراکم مونومر بیس فنولa (bpa) و کربنیل کلرید یا دی متیل کربنات ها بدست می آید. در سالهای اخیر بازیافت شیمیایی پلی کربنات بیشتر مورد توجه بوده است. بازیافت شیمیایی پلی کربنات برای بدست آوردن مواد اولیه آن با روشهای متفاوتی مانند تجزی...

simulation and design of electronic processing circuit for restaurants e-procurement system

the poor orientation of the restaurants toward the information technology has yet many unsolved issues in regards to the customers. one of these problems which lead the appeal list of later, and have a negative impact on the prestige of the restaurant is the case when the later does not respond on time to the customers’ needs, and which causes their dissatisfaction. this issue is really sensiti...

15 صفحه اول

Modeling and Simulation of a Chemical Vapor Deposition

We are motivated to model PE-CVD plasma enhanced chemical vapor deposition processes for metallic bipolar plates, and their optimization for depositing a heterogeneous layer on the metallic plate. Moreover a constraint to the deposition process is a very low pressure nearly a vacuum and a low temperature about 400K . The contribution of this paper is to derive a multiphysics system of multiple ...

متن کامل

Simulation of Epitaxial Silicon Chemical Vapor Deposition in Barrel Reactors

the epitaxial silicon chemical vapor deposition by SiClq/H2 mixtures in a LPE 861 barrel reactor has been simulated by means of a detailed 2D model solved by the commercial finite element code FIDAP. Different reactor configurations (i .e., bell diameter, gas diffusers, susceptor tilting angle) and deposition conditions ( i .e . , flow rates and reactor pressure) have been examined. The simulat...

متن کامل

ذخیره در منابع من


  با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید

ژورنال

عنوان ژورنال: Journal of Zhejiang University SCIENCE A

سال: 2014

ISSN: 1673-565X,1862-1775

DOI: 10.1631/jzus.a1300341